公开(公告)号：CN109608572A

公开(公告)日：2019-04-12

申请号：CN201811421438.1

申请日：2018-11-27

Applicant: 南开大学

Inventor： 李文友 ,  王海燕 ,  张玉奎 ,  何锡文

IPC: C08F220/06 ,  C08F220/56 ,  C08F222/14 ,  C08J9/26 ,  A61K47/04 ,  A61K47/32 ,  A61K31/704 ,  G01N21/64

Abstract: 一种基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物的制备方法，以荧光纳米粒子为载体，HER2过表达的胞外区域的线性九肽和阿霉素作为双模板，合成印迹聚合物。步骤如下：制备Si NPs；Si NPs硅烷化；制备基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物。本发明将抗原决定基印迹、双模板印迹和表面印迹方法相结合合成印迹聚合物，操作简便，过程省时，且材料具有靶向成像和靶向治疗功能；采用丙烯酸锌和丙烯酰胺为功能单体，通过金属螯合和氢键作用共同固定模板，可有效提高材料对目标物的特异性识别效果，且可利用酸性pH实现药物控释；所合成的荧光型印迹聚合物，高效地结合了荧光的高灵敏性和分子印迹技术的高选择性。

公开(公告)号：CN109608572B

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN201811421438.1

申请日：2018-11-27

Applicant: 南开大学

Inventor： 李文友 ,  王海燕 ,  张玉奎 ,  何锡文

IPC: C08F220/06 ,  C08F220/56 ,  C08F222/14 ,  C08J9/26 ,  A61K47/04 ,  A61K47/32 ,  A61K31/704 ,  G01N21/64

Abstract: 一种基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物的制备方法，以荧光纳米粒子为载体，HER2过表达的胞外区域的线性九肽和阿霉素作为双模板，合成印迹聚合物。步骤如下：制备Si NPs；Si NPs硅烷化；制备基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物。本发明将抗原决定基印迹、双模板印迹和表面印迹方法相结合合成印迹聚合物，操作简便，过程省时，且材料具有靶向成像和靶向治疗功能；采用丙烯酸锌和丙烯酰胺为功能单体，通过金属螯合和氢键作用共同固定模板，可有效提高材料对目标物的特异性识别效果，且可利用酸性pH实现药物控释；所合成的荧光型印迹聚合物，高效地结合了荧光的高灵敏性和分子印迹技术的高选择性。