一种放电气体循环利用的分布式多通道等离子水处理设备

    公开(公告)号:CN115893588A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211143761.3

    申请日:2022-09-20

    Abstract: 本发明公开了一种放电气体循环利用的分布式多通道等离子水处理设备,依次包括污水箱、多个并列排布的等离子水处理单元、集水箱;等离子水处理单元还包括均流入水口、均流出水口、活动门;等离子体反应筒为内外管同轴套接结构,其内管内密封入导电液体作为低压电极,外管的外侧套接金属层或网作为高压电极;内外管之间的空腔作为低温等离子体放电区域;等离子体反应筒为石英或刚玉陶瓷介质一体结构;内外筒之间的液体通道呈螺旋状向下延伸;还包括高压电源模块、电源管理模块;所述高压电源模块通过电源管理模块实现对多个等离子水处理单元分布式供电。本发明能够根据废水的水质流量等因素实现等离子处理。

    一种沥青生产的废气处理装置

    公开(公告)号:CN115430276B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202110616838.3

    申请日:2021-06-03

    Inventor: 万良庆 张凯

    Abstract: 本发明公开了一种沥青生产的废气处理装置,涉及沥青生产的废气处理装置领域,其技术方案为:包括第一喷淋塔,所述第一喷淋塔一侧通过第一进气管连接有风机,第一喷淋塔上通过第一排气管连接有除沫器,所述除沫器背向第一排气管一侧通过第二进气管连接有等离子设备,所述等离子设备上通过第二排气管连接有第二喷淋塔,通过双层介质放电,可以连续不间断处理废气,提高处理污水效率。

    一种低温等离子金属薄膜处理机的辊轮散热装置

    公开(公告)号:CN113179621B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202110558934.7

    申请日:2021-05-21

    Inventor: 万良庆 张凯

    Abstract: 本发明公开了一种低温等离子金属薄膜处理机的辊轮散热装置,包括固定框架,所述固定框架上对称设置有旋转开合排风管道和放电辊,所述旋转开合排风管道的一侧固定安装有抽风口,所述抽风口处设置抽风机,所述旋转开合排风管道上设置数个进风管道,所述进风管道插入电极开合机构内,所述旋转开合排风管道的外管壁通过连接板与电极开合机构固定连接,所述电极开合机构上开设有数个进风口,所述电极开合机构靠近放电辊的一侧还固定安装数个电极管,本发明的有益效果:通过冷却水旋转接头可以将放电辊上高温通过冷却循环水进行降温,同时配合抽风口处的抽风机将放电辊和电极管上的高温通过旋转开合排风管道抽离,实现整体良好的降温效果。

    一种用于辊筒内壁处理的喷枪装置

    公开(公告)号:CN115382695A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202110571374.9

    申请日:2021-05-25

    Inventor: 万良庆 张凯

    Abstract: 本发明公开了一种用于辊筒内壁处理的喷枪装置,涉及辊筒内壁处理的喷枪装置领域,其技术方案为:两个所述旋转杆上均固定套设有旋转筒,两个所述旋转筒上放置有辊筒,一个所述旋转杆的一端连接有使旋转杆转动的第一驱动件,所述底座上设有支撑座,所述支撑座上设有直线模组,所述直线模组包括移动框和滑动连接在移动框中的移动块,所述移动块的移动方向平行于滚筒轴向,所述移动块上连接有伸入辊筒内的伸入杆,所述喷枪连接在伸入杆伸入辊筒内的一端上,防止喷枪碰到辊筒内壁,且喷枪不会晃动,增大辊筒内壁喷射均匀性,提高辊筒内表面时处理效率,节省浪费。

    一种等离子体表面改性装置的功率控制方法

    公开(公告)号:CN115087183A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210501489.5

    申请日:2022-08-24

    Abstract: 本发明公开了一种等离子体表面改性装置的功率控制方法,对金属箔材表面进行改性的设备的放电装置进行功率控制;包括以下步骤:预设传动装置的运行速率及该速率对应的放电装置的放电功率;以预设的功率启动放电设备,通过速度传感器采集金属箔材实际运行速率v(t);根据实际运行速率v(t)得到功率调整值;以预设的周期采集传动装置的实际运行速度,计算出此时功率调整值,并根据功率调整值实现对放电装置的放电功率的控制;根据速度调整值,对电源输出进行相应的调整。本方法通过控制设备电源输出功率的方法,最大程度上保证金属箔材处理效果的均匀性。

    一种用于低温等离子金属薄膜处理装置的液冷装置

    公开(公告)号:CN114828580A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210497617.3

    申请日:2022-05-09

    Abstract: 本发明公开了一种用于低温等离子金属薄膜处理装置的液冷装置,包括放电辊液冷回路与放电电极液冷回路;放电辊液冷回路与放电电极液冷回路之间并联;放电辊液冷回路与放电电极液冷回路均包括对应的冷却液箱、冷却泵、换热箱;冷却液箱并列安装于同一个液冷箱中,液冷箱中两个不同的冷却液箱出液口均设置温度传感器;温度传感器同通过继电器与其对应的冷却泵的供电相连;从冷却液箱中流出的液体通过其相应的冷却泵后流入放电辊或者放电电极后进入同一个换热箱;换热箱中的冷却管呈螺旋状,从换热箱出来的冷却管将冷却液传输至液冷箱中。本发明不仅包括放电辊冷却回路,还包括放电电极冷却回路;通过两个回路的配套使用能够明显提高装置的冷却效果。

    一种沥青生产的废气处理装置

    公开(公告)号:CN115430276A

    公开(公告)日:2022-12-06

    申请号:CN202110616838.3

    申请日:2021-06-03

    Inventor: 万良庆 张凯

    Abstract: 本发明公开了一种沥青生产的废气处理装置,涉及沥青生产的废气处理装置领域,其技术方案为:包括第一喷淋塔,所述第一喷淋塔一侧通过第一进气管连接有风机,第一喷淋塔上通过第一排气管连接有除沫器,所述除沫器背向第一排气管一侧通过第二进气管连接有等离子设备,所述等离子设备上通过第二排气管连接有第二喷淋塔,通过双层介质放电,可以连续不间断处理废气,提高处理污水效率。

    一种低温等离子金属薄膜处理机的辊轮散热装置

    公开(公告)号:CN113179621A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN202110558934.7

    申请日:2021-05-21

    Inventor: 万良庆 张凯

    Abstract: 本发明公开了一种低温等离子金属薄膜处理机的辊轮散热装置,包括固定框架,所述固定框架上对称设置有旋转开合排风管道和放电辊,所述旋转开合排风管道的一侧固定安装有抽风口,所述抽风口处设置抽风机,所述旋转开口排风管道上设置数个进风管道,所述进风管道插入电极开合机构内,所述旋转开合排风管道的外管壁通过连接板与电极开合机构固定连接,所述电极开合机构上开设有数个进风口,所述电极开合机构靠近放电辊的一侧还固定安装数个电极管,本发明的有益效果:通过冷却水旋转接头可以将放电辊上高温通过冷却循环水进行降温,同时配合抽风口处的抽风机将放电辊和电极管上的高温通过旋转开合排风管道抽离,实现整体良好的降温效果。

    低温等离子体平板式往复智能化处理设备及使用方法

    公开(公告)号:CN110611986A

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201910869169.3

    申请日:2019-09-16

    Inventor: 万良庆

    Abstract: 本发明公开了低温等离子体平板式往复智能化处理设备及使用方法,包括柜体和放电平板,柜体内设有等离子电源和旋涡风机,柜体上设有控制面板,柜体顶部设有往复运动组件,往复运动组件与放电平板之间相连接,放电平板内部开有若干方形槽,方形槽之间通过方形隧道连接,放电平板底部连通有抽气道,抽气道上设有软管接头,软管接头通过软管与旋涡风机相连接,柜体顶部设有放电电极总成,放电平板位于放电电极总成下方,柜体顶部设有限位传感器,限位传感器与放电平板相对应;本发明通过旋涡风机将材料吸附在放电平板上,能够防止材料在放电平板上发生移动,通过步进马达和传送带带动放电平板往复运动,可实现对材料的多次处理。

    一种L型传动旋转等离子喷枪
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116252466A

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310367181.0

    申请日:2023-04-07

    Inventor: 万良庆 卞杰

    Abstract: 本发明公开了一种L型传动旋转等离子喷枪,应用在等离子设备技术领域,其技术方案要点是:包括喷枪主体与连通于喷枪主体上的输气管,喷枪主体内开设有空腔,空腔内底侧上设置有安装座,安装座的顶侧上分别连通有进线管和进气管,进气管与输气管之间通过管道相连通,安装座的端部连通有延长管,延长管内顶侧上对称设置有两个内固定体,两个内固定体之间安装有电极,且高压电线依次穿过进线管、安装座至延长管内与电极相连接,高压电线电性连接有电源;具有的技术效果是:提高了沟槽内壁的处理效率,方便人员对电池盒内沟槽等狭窄空间进行等离子处理。

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