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公开(公告)号:CN118204578A
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202410502904.8
申请日:2024-04-25
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明属于电解加工技术领域,尤其涉及一种用于回转体表面微结构的扫掠式掩膜电解装置,包括:用于对回转体工件在水平方向进行夹持固定的回转体定位模块;用于对回转体工件在竖直方向进行压紧固定的回转体固定模块,回转体定位模块与电源的正极电连接;用于驱动回转体定位模块进行旋转的回转台模块;用于对回转体工件进行喷射电解液的扫掠式电解模块,扫掠式电解模块与电源的负极电连接;用于扫掠式电解模块与回转台模块内的电解液的循环的电解液循环模块;控制机构,回转台模块、扫掠式电解模块、电解液循环模块均与控制机构电性连接。本发明能够提高对回转体工件电解的效率和电解的质量。
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公开(公告)号:CN118259538A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202410504185.3
申请日:2024-04-25
Applicant: 南京工业大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明属于掩膜光刻技术领域,特别是涉及一种用于回转体表面微结构的掩膜曝光装置,包括台面,台面的顶面设置有夹紧模块、位置确定模块和光源移动模块;夹紧模块包括设置在台面顶面的驱动组件,驱动组件传动连接有夹紧组件,夹紧组件用于夹紧工件,工件与位置确定模块抵接;光源移动模块包括设置在台面顶面的横向移动组件,横向移动组件的顶端设置有纵向驱动组件,纵向驱动组件上设置有光源,光源与工件对应设置。本发明在使用时,通过设置横向移动组件实现了光源的横向移动;位置确定模块能够横向移动,因此可以对不同长度的工件进行位置固定。通过设置纵向驱动组件实现了光源在纵向的往复运动,对于不同直径的工件可以调节至合适的照射距离。
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