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公开(公告)号：CN114959801B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202210312995.X
申请日：2022-03-28
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明提供了一种限域电化学逐层增减材复合加工制造方法及装置，利用绝缘屏蔽限域图案限制电化学反应发生的区域，采用交替正负脉冲电流实现具有较小特征尺寸的复杂三维金属结构高形状精度和高表面质量的电化学增材制造。该方法采用逐层加工绝缘屏蔽限域图案，可以使得所制备的三维金属结构的形状更加复杂，同时在极间交替施加正、负向脉冲波形，实现电沉积增材制造和电化学表面修整的同步进行，最终逐层制备出所需三维金属结构。本发明在三维金属结构的电化学制备方面具有快速简捷、适用性强的优点，可以实现任意结构和任意尺寸的灵活加工，解决了传统掩膜电化学增材制造难以实现复杂三维结构加工、工件表面质量差等问题。
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公开(公告)号：CN114561672B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202210151432.7
申请日：2022-02-18
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及基于光刻分层制备限域图案的电化学增材制造方法和装置。该方法根据工件三维形状数据，获取分层切片信息；将光固化材料涂覆到工件表面形成绝缘掩膜，通过光刻使绝缘掩膜选区固化；光刻完成后，进给显影液到掩膜表面去除未曝光部分，得到限域图案；显影完成后，进给电化学沉积工作液，开始电化学沉积；当沉积的金属层平铺限域图案时停止电化学沉积；在电沉积过程中实时整平金属表面，或者当每层沉积完成后整平金属表面。光刻、显影、电化学沉积和整平过程交替循环进行，逐层完成金属三维结构工件沉积，用有机溶剂浸泡去除堆叠的掩膜。本发明利用光刻绝缘掩膜和电化学沉积的快速转换，实现了复杂三维结构金属零件的高精度快速制备。
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公开(公告)号：CN114959801A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210312995.X
申请日：2022-03-28
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明提供了一种限域电化学逐层增减材复合加工制造方法及装置，利用绝缘屏蔽限域图案限制电化学反应发生的区域，采用交替正负脉冲电流实现具有较小特征尺寸的复杂三维金属结构高形状精度和高表面质量的电化学增材制造。该方法采用逐层加工绝缘屏蔽限域图案，可以使得所制备的三维金属结构的形状更加复杂，同时在极间交替施加正、负向脉冲波形，实现电沉积增材制造和电化学表面修整的同步进行，最终逐层制备出所需三维金属结构。本发明在三维金属结构的电化学制备方面具有快速简捷、适用性强的优点，可以实现任意结构和任意尺寸的灵活加工，解决了传统掩膜电化学增材制造难以实现复杂三维结构加工、工件表面质量差等问题。
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公开(公告)号：CN114561672A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210151432.7
申请日：2022-02-18
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及基于光刻分层制备限域图案的电化学增材制造方法和装置。该方法根据工件三维形状数据，获取分层切片信息；将光固化材料涂覆到工件表面形成绝缘掩膜，通过光刻使绝缘掩膜选区固化；光刻完成后，进给显影液到掩膜表面去除未曝光部分，得到限域图案；显影完成后，进给电化学沉积工作液，开始电化学沉积；当沉积的金属层平铺限域图案时停止电化学沉积；在电沉积过程中实时整平金属表面，或者当每层沉积完成后整平金属表面。光刻、显影、电化学沉积和整平过程交替循环进行，逐层完成金属三维结构工件沉积，用有机溶剂浸泡去除堆叠的掩膜。本发明利用光刻绝缘掩膜和电化学沉积的快速转换，实现了复杂三维结构金属零件的高精度快速制备。
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