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公开(公告)号：CN119439680A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411891152.5
申请日：2024-12-20
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法，涉及全息摄影技术领域。所述方法包括如下步骤：通过沿x轴与y轴方向入射，相对于z轴倾斜的两束结构光入射，形成点状干涉结构；对所述点状干涉结构进一步处理，形成点阵二值振幅全息图；利用所述点阵二值振幅全息图，将其与非线性光子晶体相结合，形成非线性全息图；利用步骤三所得非线性光子晶体，通过基频光垂直入射全息结构，在x与y轴傅里叶面上分别复现两束高保真倍频结构光。本发明所述方法得到的非线性全息图具有良好的抗噪声能力，对于非线性晶体加工过程中的畴结构边缘扩散不敏感，其实际得到的非线性结构光场相较理想结果具有很高的保真度。
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