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公开(公告)号：CN117982167B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202410396565.X
申请日：2024-04-03
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微米造影剂的二次谐波聚焦器，包括阵列布设有若干短管孔洞的器件主体，设于所述器件主体两侧的外包膜，以及填充在所述短管孔洞内的造影剂；所述器件主体材料的声阻抗远大于造影剂的声阻抗；所述外包膜的声阻抗与造影剂的声阻抗相匹配；所述阵列布设的若干短管孔洞，由N个短管孔洞按一维方向设置成列，然后绕该一维成列的中心以360°/2（n+1）的角度旋转n次形成。本发明实现二次谐波的聚焦，同时在聚焦区域形成能够聚集造影剂的基波声阱（声阱是指：中间声场低，四周声场高），从而提高成像的二次谐波信号强度以及增强接收信号的稳定性，提高成像的分辨率与对比度。
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公开(公告)号：CN117982167A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202410396565.X
申请日：2024-04-03
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微米造影剂的二次谐波聚焦器，包括阵列布设有若干短管孔洞的器件主体，设于所述器件主体两侧的外包膜，以及填充在所述短管孔洞内的造影剂；所述器件主体材料的声阻抗远大于造影剂的声阻抗；所述外包膜的声阻抗与造影剂的声阻抗相匹配；所述阵列布设的若干短管孔洞，由N个短管孔洞按一维方向设置成列，然后绕该一维成列的中心以360°/2（n+1）的角度旋转n次形成。本发明实现二次谐波的聚焦，同时在聚焦区域形成能够聚集造影剂的基波声阱（声阱是指：中间声场低，四周声场高），从而提高成像的二次谐波信号强度以及增强接收信号的稳定性，提高成像的分辨率与对比度。
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