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公开(公告)号:CN110556460A
公开(公告)日:2019-12-10
申请号:CN201910801271.X
申请日:2019-08-28
Applicant: 南京南邮信息产业技术研究院有限公司
Inventor: 王永进
Abstract: 本发明公开了一种超薄垂直结构黄光LED及其制备方法,超薄垂直结构黄光LED,包括自下而上依次设置的电子沉积底层、n型GaN层、超晶格层、量子阱层、p型电子阻挡层、p型GaN层、Ag电极层、Sn/Au金属键合层、低阻硅衬底和电子沉积顶层,其中Ag电极层和Sn/Au金属键合层键合而成;原始晶圆的缓冲层、n型GaN层、超晶格层、量子阱层、p型电子阻挡层和p型GaN层的总体厚度为d0,设定超薄垂直结构黄光LED的中心发光波长为λ,n型GaN层、量子阱层、p型电子阻挡层和p型GaN层的总厚度为d1,则需保证d1小于λ。该超薄垂直结构黄光LED由原始晶圆和低阻硅衬底依次经过金属沉积、金属键合、衬底剥离、去除缓冲层、减薄n型GaN层,再次电极沉积制成;制得的超薄垂直结构黄光LED,能显著提升电光转换效率。
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公开(公告)号:CN110676357A
公开(公告)日:2020-01-10
申请号:CN201910801226.4
申请日:2019-08-28
Applicant: 南京南邮信息产业技术研究院有限公司
Inventor: 王永进
Abstract: 本发明公开了一种超薄结构深紫外LED及其制备方法,超薄结构深紫外LED由从上往下依次设置的掺杂n型AlGaN层、量子阱层、p型电子阻挡层和p型GaN层制成的总厚度小于600nm的深紫外LED。超薄结构深紫外LED制备方法:首先光刻定义器件,并通过刻蚀暴露出掺杂n型AlGaN层,其次生长SiO2钝化层,沉积电极,形成LED结构,通过倒装键合将LED器件和新衬底键合在一起,接着通过激光剥离或研磨抛光工艺去除蓝宝石衬底,进一步减薄去除AlN缓冲层和非掺杂AlGaN层,并减薄掺杂n型AlGaN层,剩余减薄的掺杂n型AlGaN层、量子阱层、p型电子阻挡层和p型GaN层的总厚度小于600nm,形成超薄结构深紫外LED。该超薄结构深紫外LED能抑制器件内波导模式,提升器件的电光转换效率,提高器件的响应速度,根据应用需求不同,可作为发光器件、探测器件等用于率照明、显示和光通信领域。
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公开(公告)号:CN110138457A
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201910282601.9
申请日:2019-04-10
Applicant: 南京南邮信息产业技术研究院有限公司
IPC: H04B10/80 , H04B10/079 , G01D21/02
Abstract: 本发明公开了具备状态监控以及工况自适应的水下可见光通信系统,包括依次相连接的计算装置、以太网模块和光调制解调器,光调制解调器通过线缆与光学接收装置和光学发射装置相连接,其中:感光二极管检测光学发射装置发出的光照度,进而调用控制算法调节光学发射装置的工作电流与光照度;温度检测装置检测光学接收装置的内部温度,进而调节光电二极管的驱动电压和放大增益;光调制解调器根据接收的光照度、实际误码率和传输延迟,自动调节其传输速度。通过上述措施,达到了实时监测工作状态,以及自动调整工作电流、驱动电压,确保器件工作在线性区并且优化数据传输速度的技术目的。
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