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公开(公告)号：CN111233513A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010087605.4
申请日：2020-02-12
Applicant: 南京医科大学
Abstract: 本发明公开了一种氧化锆陶瓷修复体粘接面的改性方法，所述改性方法为：在氧化锆陶瓷修复体粘接面通过原子层沉积法沉积二氧化硅薄膜。本发明改性方法通过ALD技术在牙科氧化锆陶瓷粘接面上发生气-固化学反应，沉积出均匀共形、且与陶瓷基底结合稳定的二氧化硅薄膜，联合硅烷偶联剂的使用，可以有效增强牙科氧化锆陶瓷与树脂的短期及长期粘接强度，从而改善氧化锆陶瓷材料的粘接性能；另外，ALD技术还能够使粘接面上薄膜的厚度精确控制在纳米级；并且沉积反应温度低，对陶瓷基底性能无影响，因此不会影响氧化锆陶瓷修复体的远期机械性能，从而保证了其临床使用寿命，本发明方法对氧化锆陶瓷在临床上更为广泛的应用具有重要意义。
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