公开(公告)号：CN116125759A

公开(公告)日：2023-05-16

申请号：CN202310139564.2

申请日：2023-02-20

Applicant: 南京京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 林子洋 ,  叶纯

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及显示技术领域，提供一种曝光设备及显示基板。该曝光设备用于制备显示基板，该曝光设备包括载台本体、多个支撑柱、吸光层和消光结构，载台本体具有支撑面；多个支撑柱阵列分布于载台本体的支撑面，支撑柱用于支撑待制备的显示基板；吸光层覆盖于支撑面和支撑柱表面，吸光层用于吸收目标波长的入射光；消光结构，分布于载台本体的支撑面上且位于相邻支撑柱之间，消光结构用于对入射至其表面的光线进行多次光路转换以进行吸收，且消光结构的高度小于等于支撑柱的高度。本公开消光结构消除间隙区域图案边缘的曝光量与支撑柱200区域图案边缘的曝光量差异从而消除经由该曝光设备加工得到的显示基板因为曝光量差异而导致的显示不均问题。

公开(公告)号：CN115542595A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202211186822.4

申请日：2022-09-27

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  南京京东方显示技术有限公司

Inventor： 林子洋 ,  叶纯 ,  毕凯 ,  杨茜 ,  李光辉 ,  雷金波

IPC: G02F1/1333

Abstract: 本申请提供了一种显示面板和显示装置，涉及显示技术领域。显示面板，包括阵列基板、彩膜基板和防静电层；所述阵列基板和所述彩膜基板层叠设置，所述阵列基板上设有防静电电路；所述防静电层设置在所述彩膜基板背离所述阵列基板的一侧，所述防静电层为导电层，且与所述防静电电路电连接；所述显示面板的至少一条边设有防护区，所述防护区的边缘与所述显示面板的边缘平齐，所述防护区内的防静电层未完全覆盖所述防护区内的所述彩膜基板。显示面板不容易出现因静电击伤产生的外观不良。

公开(公告)号：CN118409462A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202410693825.X

申请日：2024-05-30

Applicant: 南京京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 叶纯 ,  林子洋

IPC: G02F1/1362 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1343

Abstract: 本申请提供本申请提供的一种阵列基板及其制备方法和显示装置，所述阵列基板包括显示区域，所述阵列基板包括衬底基板，多条栅线和多条数据线，多条栅线与多条数据线在衬底基板上绝缘交叠围设形成多个子像素单元，子像素单元包括开口区；至少一对位标记，对位标记在衬底基板上的正投影位于所述显示区在衬底基板上的正投影之中，以及对位标记在衬底基板上的正投影与开口区在衬底基板上的正投影不重叠，也就可以理解为对位标记设置在开口区以外的区域，这样，对位标记不会导致像素开口率下降，从而避免了显示器显示不均匀的问题。