掩膜版、图形制作装置和图形制作方法

    公开(公告)号:CN112034675A

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN202010932192.5

    申请日:2020-09-08

    Inventor: 孙晓静 高威

    Abstract: 本发明涉及一种掩膜版,包括掩膜基板、间隔设置在所述掩膜基板上的若干个遮光部以及位于各个所述遮光部之间的若干个开口区,其特征在于,至少一个所述开口区内设置有偏光膜,至少一个所述开口区内不设置偏光膜。本发明还涉及一种图形制作装置和方法,通过采用本发明的掩膜版,可以制作不同比例大小的图形,满足对不同客户的设计需求,缩短了产品的开发周期,降低了生产的成本。

Patent Agency Ranking