一种阵列基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN110739271A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201910980678.3

    申请日:2019-10-16

    Abstract: 本发明还提供一种阵列基板及其制造方法,阵列基板包括纵横交错的数据线和扫描线、薄膜晶体管和像素电极;薄膜晶体管包括与扫描线连接的栅极、与数据线连接的源极、连接电极以及金属氧化物半导体层,其中,源极与金属氧化物半导体层接触,源极和连接电极分别位于金属氧化物半导体层的两侧,连接电极连接金属氧化物半导体层和像素电极。本发明阵列基板具有三个优点:第一,薄膜晶体管的沟道长度L不受曝光机的分辨率限制,而是由第一绝缘层和源极之间的对准精度决定沟道长度L的大小;第二,随着L缩小,栅极的宽度也跟着缩小,于是彩膜基板的黑矩阵在遮光区域会减小,透光区域会变大,从而开口率提高;第三,由于没有漏极,遮光区域减小,开口率增大。

    一种薄膜晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN111048593A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201911166613.1

    申请日:2019-11-25

    Abstract: 本发明提供一种薄膜晶体管及其制造方法,薄膜晶体管包括栅极、覆盖栅极的栅极绝缘膜、位于栅极绝缘膜上且位于栅极上方的金属氧化物半导体层,还包括覆盖在金属氧化物半导体层上的第一绝缘层、与金属氧化物半导体层同层且分别位于金属氧化物半导体层两端接触的第一氧化物导体和第二氧化物导体、位于第一氧化物导体上的源极、位于第二氧化物导体上的漏极以及第二绝缘层,其中第二绝缘层覆盖第一绝缘层、源极、漏极和栅极绝缘膜。本发明第一氧化物导体和第二氧化物导体为金属氧化物半导体未覆盖第一绝缘层导体化形成,第一绝缘层决定沟道的尺寸L1,这样实现了薄膜晶体管的小型化,避免第二绝缘层形成前氧化物半导体材料处理造成第二金属层的氧化。

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