一种低温烧结高频热稳定介质陶瓷及其制备方法

    公开(公告)号:CN100424038C

    公开(公告)日:2008-10-08

    申请号:CN200610124096.8

    申请日:2006-12-07

    Inventor: 凌志远 郭栋

    Abstract: 本发明涉及一种低温烧结高频热稳定介质陶瓷及其制备方法。其组成为:100Ba3Ti5Nb6O28+aCaNb2O6+bZnO-B2O3,其中,a、b按质量份数计,0≤a≤115,5≤b≤8;其制备方法是将Ba3Ti5Nb6O28、CaNb2O6、ZnO-B2O3混合,加入粘合剂造粒,成型,在910~970℃下烧结。-55℃~+125℃下的电容温度系数TCC在±30×10-6/℃范围内;介电常数εr=25~41,1MHz下介质损耗tgδ<3×10-4;制备工艺简单,重现性好;适合于制作符合美国EIA标准NP0温度特性多层片式陶瓷电容器。

    一种低温烧结高频热稳定介质陶瓷及其制备方法

    公开(公告)号:CN1974479A

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200610124096.8

    申请日:2006-12-07

    Inventor: 凌志远 郭栋

    Abstract: 本发明涉及一种低温烧结高频热稳定介质陶瓷及其制备方法。其组成为:100Ba3Ti5Nb6O28+aCaNb2O6+bZnO-B2O3,其中,a、b按质量份数计,0≤a≤115,5≤b≤8;其制备方法是将Ba3Ti5Nb6O28、CaNb2O6、ZnO-B2O3混合,加入粘合剂造粒,成型,在910~970℃下烧结。-55℃~+125℃下的电容温度系数TCC在±30×10-6/℃范围内;介电常数εr=25~41,1MHz下介质损耗tgδ<3×10-4;制备工艺简单,重现性好;适合于制作符合美国EIA标准NP0温度特性多层片式陶瓷电容器。

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