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公开(公告)号：CN117169273B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202311160679.6
申请日：2023-09-07
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于反射法测量材料常温方向发射率的装置及方法，属于材料热物性测量技术领域，包括光源、设置在光传输方向的抛物镜、设置在抛物镜焦点处的样品放置装置以及沿光传输方向活动设置的平面反射镜组和固定平面镜，设置在固定平面镜末端的光谱接收器。测量时，将样品放置于抛物镜焦点，接着关闭光源，打开光谱接收器，记录无光源时的背景辐射信号S1；然后打开光源，记录样品该方向反射及背景辐射的总信号S2；最后移动反射镜组于其他位置，重复测量，计算反射率。本发明采用上述的一种基于反射法测量材料常温方向发射率的装置及方法，可实现目标表面在不同方向上的发射率测量，能提供目标表面常温下的各方向辐射特性。
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公开(公告)号：CN117169273A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311160679.6
申请日：2023-09-07
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于反射法测量材料常温方向发射率的装置及方法，属于材料热物性测量技术领域，包括光源、设置在光传输方向的抛物镜、设置在抛物镜焦点处的样品放置装置以及沿光传输方向活动设置的平面反射镜组和固定平面镜，设置在固定平面镜末端的光谱接收器。测量时，将样品放置于抛物镜焦点，接着关闭光源，打开光谱接收器，记录无光源时的背景辐射信号S1；然后打开光源，记录样品该方向反射及背景辐射的总信号S2；最后移动反射镜组于其他位置，重复测量，计算反射率。本发明采用上述的一种基于反射法测量材料常温方向发射率的装置及方法，可实现目标表面在不同方向上的发射率测量，能提供目标表面常温下的各方向辐射特性。
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公开(公告)号：CN118914096B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202410998891.8
申请日：2024-07-24
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明提供了一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法，包括光源，光路系统设置于光源入射方向上；光谱探测器设置于光路系统的光路射出方向上。本发明采用上述的一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法，能够快速准确测量在不同方向入射光条件下室温下材料表面各个方向的反射强度，进而根据基尔霍夫定律计算各个方向的发射率，测量时间短，能够适用于各种光滑和粗糙的材料表面。
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公开(公告)号：CN118914096A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410998891.8
申请日：2024-07-24
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明提供了一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法，包括光源，光路系统设置于光源入射方向上；光谱探测器设置于光路系统的光路射出方向上。本发明采用上述的一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法，能够快速准确测量在不同方向入射光条件下室温下材料表面各个方向的反射强度，进而根据基尔霍夫定律计算各个方向的发射率，测量时间短，能够适用于各种光滑和粗糙的材料表面。
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