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公开(公告)号:CN1279259A
公开(公告)日:2001-01-10
申请号:CN00117240.9
申请日:2000-07-06
Applicant: 华南理工大学
IPC: C08L83/00
Abstract: 本发明提供一种夹层型有机硅聚合物电光材料及其制备方法。该材料各组分的重量百分比含量为:发色基团20~50%、光导基团10~25%、聚氢化甲基硅氧烷25~65%、光敏剂0.1~0.2%。先将聚氢化甲基硅氧烷在催化剂作用下与光导基团和发色基团反应;再将所得产物加光敏剂后溶于溶剂中;然后在镀有氧化铟锡的玻片或石英片上成膜,搭接叠放,引出电极,即为本产品。本发明工艺简单,且容易控制,材料的性能可调节,且电光性好,可广泛适用于光储存、三维全息存储、光信息处理包括像放大和像相关、畸变修正、空间光调制等场合。
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公开(公告)号:CN1139619C
公开(公告)日:2004-02-25
申请号:CN00117240.9
申请日:2000-07-06
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明提供一种夹层型有机硅聚合物电光材料及其制备方法。该材料各组分的重量百分比含量为:发色基团20~50%、光导基团10~25%、聚氢化甲基硅氧烷25~65%、光敏剂0.1~0.2%。先将聚氢化甲基硅氧烷在催化剂作用下与光导基团和发色基团反应;再将所得产物加光敏剂后溶于溶剂中;然后在镀有氧化铟锡的玻片或石英片上成膜,搭接叠放,引出电极,即为本产品。本发明工艺简单,且容易控制,材料的性能可调节,且电光性好,可广泛适用于光储存、三维全息存储、光信息处理包括像放大和像相关、畸变修正、空间光调制等场合。
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