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公开(公告)号：CN111795667A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010594483.8
申请日：2020-06-28
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明涉及一种用于头戴产品适配性分析的间隙测量方法，包括以下步骤，选取待测量的产品模型和用于测量的标准头型；将产品模型叠加于标准头型；剖切叠加于标准头型的产品模型，获得一剖面图形；读取剖面图形获得头型轮廓曲线和模型轮廓曲线；计算得到头型轮廓曲线任一点与模型轮廓曲线对应点之间距离。通过计算结果得到的距离能直观显示头戴产品和头型的适配效果。通过更换不同的标准头型，方便同时选择不同头型进行佩戴效果对比，能够提供改善头戴产品适配性的量化数据，避免出现因为头戴产品与头部有相互干涉或是间隙过大而产生的体验不佳的情况，有效提升头戴产品的用户体验，节约后期进行可用性测试的成本，提高头戴产品的竞争力。
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公开(公告)号：CN111795667B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202010594483.8
申请日：2020-06-28
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明涉及一种用于头戴产品适配性分析的间隙测量方法，包括以下步骤，选取待测量的产品模型和用于测量的标准头型；将产品模型叠加于标准头型；剖切叠加于标准头型的产品模型，获得一剖面图形；读取剖面图形获得头型轮廓曲线和模型轮廓曲线；计算得到头型轮廓曲线任一点与模型轮廓曲线对应点之间距离。通过计算结果得到的距离能直观显示头戴产品和头型的适配效果。通过更换不同的标准头型，方便同时选择不同头型进行佩戴效果对比，能够提供改善头戴产品适配性的量化数据，避免出现因为头戴产品与头部有相互干涉或是间隙过大而产生的体验不佳的情况，有效提升头戴产品的用户体验，节约后期进行可用性测试的成本，提高头戴产品的竞争力。
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