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公开(公告)号:CN107362722A
公开(公告)日:2017-11-21
申请号:CN201710637675.0
申请日:2017-07-28
Applicant: 华南理工大学
IPC: B01F7/16
CPC classification number: B01F7/00975 , B01F7/1665
Abstract: 本发明涉及立式双轴搅拌机叶片动态补偿结构,包括搅拌罐,设置于搅拌罐内部的双轴搅拌器,双轴搅拌器包括并排设置的第一旋转轴和第二旋转轴,设置于搅拌罐和双轴搅拌器下部的四个模腔,本发明克服了现有技术中双轴搅拌器第一旋转轴与第二旋转轴对应搅拌臂的叶片角度不对称的问题,将双轴搅拌器的第一旋转轴和第二旋转轴的对应搅拌臂的叶片角度调成对称,使位于第一旋转轴和第二旋转轴附近的颗粒数量保持一致,使四个模腔内布料均匀,本运行方法,使距离较近的第一旋转轴和第二旋转轴,在旋转臂划过的轨迹圆有干涉的情况下不发生打刀的情况,且保证两侧旋转臂和叶片每次运行划过的面积相同且对四个模腔的影响和作用尽量相同。
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公开(公告)号:CN207203906U
公开(公告)日:2018-04-10
申请号:CN201720936667.1
申请日:2017-07-28
Applicant: 华南理工大学
IPC: B01F7/16
Abstract: 本实用新型涉及立式双轴搅拌机叶片动态补偿结构,包括搅拌罐,设置于搅拌罐内部的双轴搅拌器,双轴搅拌器包括并排设置的第一旋转轴和第二旋转轴,设置于搅拌罐和双轴搅拌器下部的四个模腔,本实用新型克服了现有技术中双轴搅拌器第一旋转轴与第二旋转轴对应搅拌臂的叶片角度不对称的问题,将双轴搅拌器的第一旋转轴和第二旋转轴的对应搅拌臂的叶片角度调成对称,使位于第一旋转轴和第二旋转轴附近的颗粒数量保持一致,使四个模腔内布料均匀,本运行方法,使距离较近的第一旋转轴和第二旋转轴,在旋转臂划过的轨迹圆有干涉的情况下不发生打刀的情况,且保证两侧旋转臂和叶片每次运行划过的面积相同且对四个模腔的影响和作用尽量相同。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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