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公开(公告)号:CN114481029A
公开(公告)日:2022-05-13
申请号:CN202210066821.X
申请日:2022-01-20
Applicant: 华南理工大学
IPC: C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/35 , C23C14/54 , C30B28/12 , C30B29/02 , C30B29/68 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B3/00
Abstract: 本发明公开了一种多晶复合超晶格结构薄膜的制备方法,包括以下步骤:将两种以上靶材分别安装在溅射靶位上,将清洗后的基底安装在溅射腔室的旋转底座上;对超高真空磁控溅射系统的溅射腔抽真空后,通入工作气体;工作气压稳定后,对每个靶材电源进行预溅射,清除靶材表面污染层;进行半共溅射:控制不同靶材功率和基底转速,使得基底在旋转过程中依次通过不同的靶材的上方,并且任意时间段内,最多有一种靶材原子到达基底表面,在基底表面得到多晶复合超晶格结构层;在多晶复合超晶格结构层的表面沉积保护层。本发明的制备方法生长速率快,成膜工艺简单,可重复性好,精细结构可控,可实现10层原子层厚度以下级别的超晶格结构。
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公开(公告)号:CN108149211A
公开(公告)日:2018-06-12
申请号:CN201711499277.3
申请日:2017-12-29
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种Mg-TM超多层复合储氢薄膜及其制备方法。该Mg-TM超多层复合储氢薄膜,为Mg与TM原子层交替沉积成膜的Mg-TM复合薄膜,且Mg-TM复合薄膜的外表面具有Pd封盖层;所述TM为过渡族金属元素Ti、Ni或Nb。本发明采用廉价的超高真空磁控溅射系统的半共溅射工艺方法制备Mg-TM超多层复合储氢薄膜,制备工艺简单,成本低廉,可重复性好,制备得到具有Mg明显择优取向的高质量Mg-TM超多层复合储氢薄膜,且制备的薄膜具有更低的吸/脱氢温度和更快的吸/脱氢速率,在423K的温度以及1.15MPa的氢压下,500s吸氢量达到3.4wt%;在423K的温度下,600s脱氢量达到2.1wt%。
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