一种线性像素界定层结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN106129090A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201610585890.6

    申请日:2016-07-22

    CPC classification number: H01L27/3246 H01L51/56

    Abstract: 一种线性像素界定层结构的制备方法,包括如下步骤:A.在基板表面沉积疏液性的绝缘层;B.在绝缘层表面打印能够溶解绝缘层的溶剂,形成像素墙和像素限定区;C.进行氧离子轰击处理,将像素限定区内残留的绝缘层除掉,此时整体结构呈亲液状态;D.进行热处理,使得绝缘材料部分恢复疏液性,像素限定区保持亲液状态。本发明通过在绝缘层表面打印溶剂得到像素界定层,其像素限定区具有亲液性,有利于溶液的铺展,像素墙具有疏液性,可以防止溶液溢出,且由于该绝缘材料仅溶于其特定的溶剂,可以防止发光层溶液侵蚀像素界定层。具有制备工艺简单、材料利用率高的特点。

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