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公开(公告)号：CN110103613A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201910417922.5
申请日：2019-05-20
Applicant: 华北理工大学
Abstract: 本发明涉一种工业设计手绘循环利用装置，包括底板、支撑架和手绘装置,所述的底板上端左侧安装有支撑架，支撑架右侧安装有手绘装置，手绘装置下端安装在底板上。本发明可以解决现有手绘装置在多次循环使用后，通常擦拭效果差，白板表面通常会残留较浅的痕迹，影响后续绘图效果，而且手绘板的绘图面积固定，在绘制较大图案时，需要分开绘制，影响绘图效果等难题，具有擦拭效果好、擦拭方便、能够有效的增加绘图面积，便于后续使用等优点。
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公开(公告)号：CN110720791A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201911107181.7
申请日：2019-11-13
Applicant: 华北理工大学
Abstract: 本发明涉及一种工业设计模型的展示装置，包括底板、支撑柱和展示装置,所述的底板上端中部安装有支撑柱，支撑柱内部位空心结构，支撑柱上端安装有展示装置。本发明可以解决现有的展示装置在对模型进行展示的过程中，展示效果差、展示不充分，长时间展览后，模型表面容易粘附大量的灰尘，清理效果差、清洁不方便，而且现有的模型在展览时，不能够有效的对模型进行防护，模型在运输过程中容易发生碰撞的现象，导致模型易受损，影响模型的使用寿命等难题。
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公开(公告)号：CN110103613B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201910417922.5
申请日：2019-05-20
Applicant: 华北理工大学
Abstract: 本发明涉一种工业设计手绘循环利用装置，包括底板、支撑架和手绘装置,所述的底板上端左侧安装有支撑架，支撑架右侧安装有手绘装置，手绘装置下端安装在底板上。本发明可以解决现有手绘装置在多次循环使用后，通常擦拭效果差，白板表面通常会残留较浅的痕迹，影响后续绘图效果，而且手绘板的绘图面积固定，在绘制较大图案时，需要分开绘制，影响绘图效果等难题，具有擦拭效果好、擦拭方便、能够有效的增加绘图面积，便于后续使用等优点。
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公开(公告)号：CN110720791B
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201911107181.7
申请日：2019-11-13
Applicant: 华北理工大学
Abstract: 本发明涉及一种工业设计模型的展示装置，包括底板、支撑柱和展示装置,所述的底板上端中部安装有支撑柱，支撑柱内部位空心结构，支撑柱上端安装有展示装置。本发明可以解决现有的展示装置在对模型进行展示的过程中，展示效果差、展示不充分，长时间展览后，模型表面容易粘附大量的灰尘，清理效果差、清洁不方便，而且现有的模型在展览时，不能够有效的对模型进行防护，模型在运输过程中容易发生碰撞的现象，导致模型易受损，影响模型的使用寿命等难题。
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