公开(公告)号：CN219113219U

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202220754012.3

申请日：2022-03-31

Applicant: 华北水利水电大学

Inventor： 王星星 ,  李阳 ,  何鹏 ,  李红 ,  温国栋 ,  贾连辉 ,  龙伟民 ,  于华 ,  纠永涛 ,  方乃文 ,  金李梅 ,  吴文君 ,  顾立勇 ,  李帅 ,  王振

IPC: B23K35/40 ,  C23C14/32 ,  C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  C23C14/14

Abstract: 一种多层膜复合钎料制备装置，包括机架和设置在机架上的电弧离子镀室与磁溅真空室；所述电弧离子镀室和磁溅真空室均设置有用于调节气压的真空调节组件；所述电弧离子镀室包括镀膜室本体和设置在镀膜室本体内的内圆圈架，镀膜室本体侧壁上设置有多个离子源，镀膜室本体底部设置有旋转组件，旋转组件用于带动内圆圈架转动，内圆圈架上固定有样品托，内圆圈架内沿轴向贯穿设置有加热棒；所述磁溅真空室包括磁溅真空室本体、磁控溅射枪和样品托，磁控溅射枪设置在磁溅真空室本体内的顶部，样品托转动设置在磁溅真空室本体内的底部。本实用新型能够制备出润湿性好、钎焊温度低的钛基多层膜复合钎料，弥补市场多层膜复合钎料制备装置的空白。