公开(公告)号：CN115220300A

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN202110402526.2

申请日：2021-04-14

Applicant: 华为技术有限公司

Inventor： 张磊 ,  仪晓凤 ,  王迪 ,  张宇

IPC: G03F7/004 ,  G03F1/76

Abstract: 本申请涉及一种图案化材料、图案化组合物和图案形成方法。本申请的图案化材料具有金属氧团簇骨架、辐射敏感性有机配体和第二配体，所述辐射敏感性有机配体经由配位原子而与金属M配位，所述配位原子为选自氧原子、硫原子、硒原子、氮原子、磷原子中的至少一种，并且所述辐射敏感性有机配体为单齿配体或者为两齿以上的配体；所述第二配体为无机离子或配位基团。

公开(公告)号：CN116068850A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202111281644.9

申请日：2021-10-31

Applicant: 华为技术有限公司

Inventor： 张磊 ,  仪晓凤 ,  王迪 ,  丁清荣 ,  张宇

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 本申请提供一种有机混金属氧簇化合物，化学通式为：(M1)a(M2)b(M3)cOg(L1)x(L2)y(L3)z；其中，M1选自Ti、Zr、Hf中的至少一种，M2选自Bi、Te、Sn、Pt、Ag、Au中的至少一种，M3选自Fe、Ni、Co、Cu中的一种，L1、L2、L3分别选自与金属直接配位且含有O、S、Se、N、P中的一种作为配位原子的有机配体，a、b、g、x、y、z均为≥1的自然数；c为≥0的自然数。本申请还提供包括该有机混金属氧簇化合物的图案化材料、包括该图案化材料的半导体器件、终端和基底表面图案化方法。本申请的基底表面图案化方法，使用的材料简单，可实现高分辨率、边沿粗糙度低的图案。