公开(公告)号：CN104233119B

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201410467783.4

申请日：2014-09-15

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 柳林 ,  黎智 ,  张诚

IPC: C22C45/02 ,  C23C14/14 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明公开了一种防腐耐磨铁基非晶薄膜及其制备方法，其包括的成分及该成分的原子百分比含量分别为：14.0～22.0at.％Cr，6.0～16.0at.％Mo，4.0～7.0at.％B，4.0～20.0at.％C，0.0～3.0at.％W以及余量的Fe。其制备方法包含S1制备单一合金靶材；S2选择衬底材料，将衬底表面进行平整化，然后清洗并吹干待用；S3进行磁控溅射，其中，背景真空度值不高于5x10‑4Pa，靶基距为40～100mm，溅射时间为2～120min。本发明中铁基非晶薄膜具有很高的硬度、优异的耐腐蚀、抗磨损等特性，且其制备方法的工艺可操作性强，制造成本低。

公开(公告)号：CN104233119A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201410467783.4

申请日：2014-09-15

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 柳林 ,  黎智 ,  张诚

IPC: C22C45/02 ,  C23C14/14 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明公开了一种防腐耐磨铁基非晶薄膜及其制备方法，其包括的成分及该成分的原子百分比含量分别为：14.0～22.0at.％Cr，6.0～16.0at.％Mo，4.0～7.0at.％B，4.0～20.0at.％C，0.0～3.0at.％W以及余量的Fe。其制备方法包含S1制备单一合金靶材；S2选择衬底材料，将衬底表面进行平整化，然后清洗并吹干待用；S3进行磁控溅射，其中，背景真空度值不高于5x10-4Pa，靶基距为40～100mm，溅射时间为2～120min。本发明中铁基非晶薄膜具有很高的硬度、优异的耐腐蚀、抗磨损等特性，且其制备方法的工艺可操作性强，制造成本低。