一种非线性透射光处理器

    公开(公告)号:CN111083817B

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN201911327913.3

    申请日:2019-12-20

    Inventor: 赖建军 黄鹰

    Abstract: 本发明涉及光防护技术领域,公开了一种非线性透射光处理器,包括衬底、电加热器以及温度控制器,所述衬底的一面上沉积有相变膜,所述衬底的另一面上设置所述电加热器,所述电加热器用于对所述衬底进行加热,所述电加热器通过所述温度控制器与外部电源电连接,所述温度控制器用于控制所述衬底的温度低于所述相变膜的相变温度,所述温度控制器的控制温度与所述相变温度的差值小于设定阈值。本发明提供的光处理器具有开关响应快的技术效果。

    一种非线性透射光处理器

    公开(公告)号:CN111083817A

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201911327913.3

    申请日:2019-12-20

    Inventor: 赖建军 黄鹰

    Abstract: 本发明涉及光防护技术领域,公开了一种非线性透射光处理器,包括衬底、电加热器以及温度控制器,所述衬底的一面上沉积有相变膜,所述衬底的另一面上设置所述电加热器,所述电加热器用于对所述衬底进行加热,所述电加热器通过所述温度控制器与外部电源电连接,所述温度控制器用于控制所述衬底的温度低于所述相变膜的相变温度,所述温度控制器的控制温度与所述相变温度的差值小于设定阈值。本发明提供的光处理器具有开关响应快的技术效果。

    微纳尺度图纹压印模具的制作方法

    公开(公告)号:CN103730339B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201310740176.6

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 微纳尺度图纹压印模具的制作方法,属于压印模具的精细加工方法,解决激光干涉光刻制作模具条纹尺度不够精细,而电子束光刻制作高精细图形速度过慢、不适于大面积制作的问题。本发明的一种方法,顺序包括电子束光刻、一次干法刻蚀、激光干涉光刻、二次干法刻蚀、纳米压印、微电铸步骤;本发明的另一种方法,顺序包括激光干涉光刻、一次干法刻蚀、电子束光刻、二次干法刻蚀、纳米压印、微电铸步骤。本发明结合电子束光刻制作精细和激光干涉光刻成本低、制作模具幅面尺度大的优势,将纳米尺寸图纹和微纳尺寸图纹分别制备在压印模具不同位置,制作的图纹表现力远优于传统激光干涉光刻图纹,提高了全息防伪标识和其它通过压印形成图纹产品的防伪能力。

    一种微型F-P腔可调谐滤波器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103293660A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310215186.8

    申请日:2013-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种微型F-P腔可调谐滤波器及其制备方法,包括衬底,在衬底片的一面附着增透膜,另一面附着第一布拉格反射镜,在第一布拉格反射镜上附着第一电极和第二电极;在第一电极上附着四个金属桥墩,在四个金属桥墩上附着有桥面;桥面由四个悬臂梁和可动隔膜构成,每一个悬臂梁为L型,一个悬臂梁的一端与一个金属桥墩垂直固定连接,另一端与可动隔膜连接;可动隔膜为正方形且中心嵌有第二布拉格反射镜;第一布拉格反射镜与第二布拉格反射镜构成F-P腔的谐振腔;通电后,四个悬臂梁发生弹性形变并带动可动隔膜和第二布拉格反射镜在垂直于第一布拉格反射镜的方向移动,改变谐振腔的腔长,实现滤波器的可调谐功能,该滤波器能有大的调谐范围,响应速度快。

    一种微型的桥式结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN103345057B

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201310215152.9

    申请日:2013-05-31

    Abstract: 本发明提供了一种微型的桥式结构及其制备方法,包括四个悬臂梁,金属桥面,四个金属桥墩和衬底;每一个悬臂梁均为L型结构,悬臂梁的一端与一个金属桥墩垂直固定连接,另一端与金属桥面连接;金属桥面与悬臂梁位于同一个平面,四个悬臂梁将金属桥面悬挂于衬底上,并在金属桥面的下底面与衬底之间形成空腔结构。方法包括在洁净的衬底表面制备金属桥墩;在形成有金属桥墩的衬底表面涂覆牺牲层;对牺牲层进行光刻处理后将金属桥墩顶部的牺牲层去除并露出金属桥墩的顶部;对牺牲层进行固化处理;在固化后的牺牲层上制备金属桥面;去除金属桥面底部的牺牲层形成空腔,搭建桥式结构。本发明提供的桥式结构,可调谐范围大,桥面平行度好。

    一种像素单元及其构成的红外成像探测器和制备工艺

    公开(公告)号:CN105527026A

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201410512630.7

    申请日:2014-09-29

    Abstract: 本发明公开一种具有纳结构光敏单元并采用背照明方式的非致冷红外探测像素单元以及由此像素单元构成的面阵红外成像探测器芯片。该探测器芯片由含有光敏单元阵列的硅基有源片和起支撑作用的无源衬底片键合而成。有源片上含有大量的由像素单元组成的二维阵列,每个像素单元由硅衬底正面的中心红外光透射通道、透射通道外围的ROIC读出电路、像素中心的纳结构光敏单元、表面介质层和硅衬底背面的聚焦微光学单元组成。红外光从硅衬底背面的微透镜一侧入射,被微透镜会聚后通过光透射通道并被聚焦到硅衬底正面的纳结构光敏单元而被吸收探测。本发明的背照明纳结构红外探测器具有高填充因子和快速响应特点,器件结构和制备工艺均比较简单,可用于制造低成本红外热像仪。

    一种微型F-P腔可调谐滤波器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103293660B

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201310215186.8

    申请日:2013-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种微型F-P腔可调谐滤波器及其制备方法,包括衬底,在衬底片的一面附着增透膜,另一面附着第一布拉格反射镜,在第一布拉格反射镜上附着第一电极和第二电极;在第一电极上附着四个金属桥墩,在四个金属桥墩上附着有桥面;桥面由四个悬臂梁和可动隔膜构成,每一个悬臂梁为L型,一个悬臂梁的一端与一个金属桥墩垂直固定连接,另一端与可动隔膜连接;可动隔膜为正方形且中心嵌有第二布拉格反射镜;第一布拉格反射镜与第二布拉格反射镜构成F-P腔的谐振腔;通电后,四个悬臂梁发生弹性形变并带动可动隔膜和第二布拉格反射镜在垂直于第一布拉格反射镜的方向移动,改变谐振腔的腔长,实现滤波器的可调谐功能,该滤波器能有大的调谐范围,响应速度快。

    一种像素单元及其构成的红外成像探测器

    公开(公告)号:CN105527026B

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201410512630.7

    申请日:2014-09-29

    Abstract: 本发明公开一种具有纳结构光敏单元并采用背照明方式的非致冷红外探测像素单元以及由此像素单元构成的面阵红外成像探测器芯片。该探测器芯片由含有光敏单元阵列的硅基有源片和起支撑作用的无源衬底片键合而成。有源片上含有大量的由像素单元组成的二维阵列,每个像素单元由硅衬底正面的中心红外光透射通道、透射通道外围的ROIC读出电路、像素中心的纳结构光敏单元、表面介质层和硅衬底背面的聚焦微光学单元组成。红外光从硅衬底背面的微透镜一侧入射,被微透镜会聚后通过光透射通道并被聚焦到硅衬底正面的纳结构光敏单元而被吸收探测。本发明的背照明纳结构红外探测器具有高填充因子和快速响应特点,器件结构和制备工艺均比较简单,可用于制造低成本红外热像仪。

    微纳尺度图纹压印模具的制作方法

    公开(公告)号:CN103730339A

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201310740176.6

    申请日:2013-12-27

    CPC classification number: G03F7/0002

    Abstract: 微纳尺度图纹压印模具的制作方法,属于压印模具的精细加工方法,解决激光干涉光刻制作模具条纹尺度不够精细,而电子束光刻制作高精细图形速度过慢、不适于大面积制作的问题。本发明的一种方法,顺序包括电子束光刻、一次干法刻蚀、激光干涉光刻、二次干法刻蚀、纳米压印、微电铸步骤;本发明的另一种方法,顺序包括激光干涉光刻、一次干法刻蚀、电子束光刻、二次干法刻蚀、纳米压印、微电铸步骤。本发明结合电子束光刻制作精细和激光干涉光刻成本低、制作模具幅面尺度大的优势,将纳米尺寸图纹和微纳尺寸图纹分别制备在压印模具不同位置,制作的图纹表现力远优于传统激光干涉光刻图纹,提高了全息防伪标识和其它通过压印形成图纹产品的防伪能力。

    一种微型的桥式结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN103345057A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201310215152.9

    申请日:2013-05-31

    Abstract: 本发明提供了一种微型的桥式结构及其制备方法,包括四个悬臂梁,金属桥面,四个金属桥墩和衬底;每一个悬臂梁均为L型结构,悬臂梁的一端与一个金属桥墩垂直固定连接,另一端与金属桥面连接;金属桥面与悬臂梁位于同一个平面,四个悬臂梁将金属桥面悬挂于衬底上,并在金属桥面的下底面与衬底之间形成空腔结构。方法包括在洁净的衬底表面制备金属桥墩;在形成有金属桥墩的衬底表面涂覆牺牲层;对牺牲层进行光刻处理后将金属桥墩顶部的牺牲层去除并露出金属桥墩的顶部;对牺牲层进行固化处理;在固化后的牺牲层上制备金属桥面;去除金属桥面底部的牺牲层形成空腔,搭建桥式结构。本发明提供的桥式结构,可调谐范围大,桥面平行度好。

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