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公开(公告)号：CN113267130A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110658140.8
申请日：2021-06-11
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种线扫描膜厚测量系统，包括：照射模块、光谱成像模块和数据处理模块；所述照射模块采用离散分布的光纤，用于产生离散的线性平行光束，垂直照射待测样品；所述光谱成像模块，用于采集待测样品被照射后表面形成的干涉光，生成具有位置维度和光谱维度的二维图像；所述数据处理模块，用于对二维图像进行功率谱分析得到待测样品膜厚。本发明照射模块采用离散分布的光纤，产生离散的线性平行光束，离散测量可以测得远多于单点测量所获得的膜厚，所得到的膜厚分布更接近真实分布。同时产生离散的线性平行光束，减少了膜厚叠加情况，进而可以提高测量精度。能够满足卷对卷加工工艺中大幅宽半导体薄膜的实时在线检测需求。
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公开(公告)号：CN113267130B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202110658140.8
申请日：2021-06-11
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种线扫描膜厚测量系统，包括：照射模块、光谱成像模块和数据处理模块；所述照射模块采用离散分布的光纤，用于产生离散的线性平行光束，垂直照射待测样品；所述光谱成像模块，用于采集待测样品被照射后表面形成的干涉光，生成具有位置维度和光谱维度的二维图像；所述数据处理模块，用于对二维图像进行功率谱分析得到待测样品膜厚。本发明照射模块采用离散分布的光纤，产生离散的线性平行光束，离散测量可以测得远多于单点测量所获得的膜厚，所得到的膜厚分布更接近真实分布。同时产生离散的线性平行光束，减少了膜厚叠加情况，进而可以提高测量精度。能够满足卷对卷加工工艺中大幅宽半导体薄膜的实时在线检测需求。
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公开(公告)号：CN114723625B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202210272852.0
申请日：2022-03-18
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于薄膜测量领域，具体涉及一种基于线扫描高光谱成像的薄膜膜厚测量方法，包括：获取由位置维度和光谱维度构成的二维畸变光谱图像，其中的每个光谱带存在梯形畸变形状；采用该插值方式对各光谱带像素点进行位置维度畸变校正；基于无形状畸变的待测薄膜二维光谱图像和无薄膜二维光谱图像，确定待测薄膜的透射光谱或反射光谱；采用多项式对该光谱本征趋势拟合，得到本征趋势多项式；分别对该本征趋势多项式和透射光谱或反射光谱做傅里叶变换，得到的本征趋势频谱和透射或反射频谱相减，计算得到待测的大幅宽薄膜的膜厚分布。本发明提出一种面向高光谱成像畸变图像处理方法以快速精确地对大幅宽薄膜幅宽方向厚度分布进行测量。
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公开(公告)号：CN114723625A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210272852.0
申请日：2022-03-18
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于薄膜测量领域，具体涉及一种基于线扫描高光谱成像的薄膜膜厚测量方法，包括：获取由位置维度和光谱维度构成的二维畸变光谱图像，其中的每个光谱带存在梯形畸变形状；采用该插值方式对各光谱带像素点进行位置维度畸变校正；基于无形状畸变的待测薄膜二维光谱图像和无薄膜二维光谱图像，确定待测薄膜的透射光谱或反射光谱；采用多项式对该光谱本征趋势拟合，得到本征趋势多项式；分别对该本征趋势多项式和透射光谱或反射光谱做傅里叶变换，得到的本征趋势频谱和透射或反射频谱相减，计算得到待测的大幅宽薄膜的膜厚分布。本发明提出一种面向高光谱成像畸变图像处理方法以快速精确地对大幅宽薄膜幅宽方向厚度分布进行测量。
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