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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114627900B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202210289619.3
申请日：2022-03-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G11B7/0037 , G11B7/0045
Abstract: 本发明属于存储介质定位技术领域，公开了一种能在单一存储介质定位的方法、系统及应用，将光学头采用双物镜或双光点的方案；预制三维体材料的螺旋线以开环的写入方式，将带有层信息的地址写入一定宽度的螺旋线上；在预先制备刻写时在螺旋线特定的位置标识上地址信息。本发明的能在单一存储介质定位的方案，能够保证可在单一体存储材料中能找到不同的逻辑层，实现信息数据的读取与写入操作。通过本发明提出的格式及基于此格式的跳层方案，能够实现精准的跳层操作，对后续实现多层的数据读取和写入具有重要意义；采用此跳层方案一定宽度的螺旋线仅占用较少的存储空间用于标识层号，没有过多的占用用户的存储空间，提升了三维体存储的存储容量。
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公开(公告)号：CN114627900A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202210289619.3
申请日：2022-03-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G11B7/0037 , G11B7/0045
Abstract: 本发明属于存储介质定位技术领域，公开了一种能在单一存储介质定位的方法、系统及应用，将光学头采用双物镜或双光点的方案；预制三维体材料的螺旋线以开环的写入方式，将带有层信息的地址写入一定宽度的螺旋线上；在预先制备刻写时在螺旋线特定的位置标识上地址信息。本发明的能在单一存储介质定位的方案，能够保证可在单一体存储材料中能找到不同的逻辑层，实现信息数据的读取与写入操作。通过本发明提出的格式及基于此格式的跳层方案，能够实现精准的跳层操作，对后续实现多层的数据读取和写入具有重要意义；采用此跳层方案一定宽度的螺旋线仅占用较少的存储空间用于标识层号，没有过多的占用用户的存储空间，提升了三维体存储的存储容量。
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公开(公告)号：CN108614130A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201810357732.4
申请日：2018-04-20
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种增强透射的纳米环形近场光学探针及其制备方法，该探针由光纤纤芯、纳米环形结构、金属膜及中心增强透射孔构成，纳米环形结构分布在光纤纤芯平滑端头的二氧化硅与金属膜的界面处，能使激发光转化成等离激元，聚焦到中心增强透射孔中，并且产生纳米尺度及具备高度方向性的增强透射光。同时通过改变和优化环形结构位置与宽度、金属膜材料及厚度，中心增强透射孔尺寸大小等，皆可以实现纳米聚焦的调控和优化。本发明可用作扫描近场光学显微镜、原子力显微镜和针尖增强拉曼光谱仪的探针，光学探针形成的高方向性纳米尺度增强透射近场光可以用作纳米光刻和亚波长光通信的光源，并且在纳米传感、纳米成像等诸多领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN108614130B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201810357732.4
申请日：2018-04-20
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种增强透射的纳米环形近场光学探针及其制备方法，该探针由光纤纤芯、纳米环形结构、金属膜及中心增强透射孔构成，纳米环形结构分布在光纤纤芯平滑端头的二氧化硅与金属膜的界面处，能使激发光转化成等离激元，聚焦到中心增强透射孔中，并且产生纳米尺度及具备高度方向性的增强透射光。同时通过改变和优化环形结构位置与宽度、金属膜材料及厚度，中心增强透射孔尺寸大小等，皆可以实现纳米聚焦的调控和优化。本发明可用作扫描近场光学显微镜、原子力显微镜和针尖增强拉曼光谱仪的探针，光学探针形成的高方向性纳米尺度增强透射近场光可以用作纳米光刻和亚波长光通信的光源，并且在纳米传感、纳米成像等诸多领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN208140736U
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201820566435.6
申请日：2018-04-20
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本实用新型公开了一种增强透射的纳米环形近场光学探针，该探针由光纤纤芯、纳米环形结构、金属膜及中心增强透射孔构成，纳米环形结构分布在光纤纤芯平滑端头的二氧化硅与金属膜的界面处，能使激发光转化成等离激元，聚焦到中心增强透射孔中，并且产生纳米尺度及具备高度方向性的增强透射光。同时通过改变和优化环形结构位置与宽度、金属膜材料及厚度，中心增强透射孔尺寸大小等，皆可以实现纳米聚焦的调控和优化。本实用新型可用作扫描近场光学显微镜、原子力显微镜和针尖增强拉曼光谱仪的探针，光学探针形成的高方向性纳米尺度增强透射近场光可以用作纳米光刻和亚波长光通信的光源，并且在纳米传感、纳米成像等诸多领域具有重要的应用价值。
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