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公开(公告)号：CN204955750U
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201520737441.X
申请日：2015-09-22
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J3/00
Abstract: 本实用新型公开了一种三维曲面上微笔直写电子浆料的装置，装置包括五轴联动工作台、微笔直写子系统和控制单元。五轴联动工作台由XY工作台、Z轴和旋转工作台组成，微笔直写子系统由微笔阵列、激光位移传感器和夹具组成，控制单元用于控制五轴联动工作台运动，使激光位移传感器与微笔阵列能够同时移动，并在微笔直写过程中控制微笔直写笔头与工件之间的垂直距离。本实用新型可以使在不平整的三维曲面工件上直写的电子浆料层厚薄均匀，工艺稳定性好，环境友好，降低制造成本，可靠性高。本实用新型适用于多种材料基板、不同性质的电子浆料的直写，可快速获得性能良好的电子元器件或薄膜器件等。
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