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公开(公告)号:CN116406212A
公开(公告)日:2023-07-07
申请号:CN202310458050.3
申请日:2023-04-21
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种用于调控FA1‑xCsxPbBryI3‑y钙钛矿薄膜缺陷和应力的高沸点砜类添加剂,具体调控生长方法包括:将高沸点砜类添加剂溶解于FA1‑xCsxPbBryI3‑y钙钛矿前驱体溶液中;然后将所得钙钛矿溶液涂覆在基板上,反溶剂萃取,得钙钛矿前驱体薄膜;再进行退火处理,即得改性钙钛矿薄膜。采用本发明所述高沸点砜类添加剂可有效避免δ相FAPbI3向α相FAPbI3转变过程中晶胞体积收缩带来的拉伸应力等问题,并进一步释放高温退火过程中的拉伸应力,有效降低薄膜体相缺陷态密度,抑制钙钛矿薄膜中的非辐射复合,显著提高钙钛矿太阳能电池的光伏性能;且涉及的调控方法简单、能耗较低,适合推广应用。