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公开(公告)号：CN105955796B
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201610256113.7
申请日：2016-04-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种云平台上高性能并行应用的调度方法及系统；其方法为：设置虚拟机类型；采集网络数据包信息和自旋锁信息，并发送给宿主机；宿主机根据Hypercall调用号获取信息处理函数，获取自旋锁计数和网络数据包计数，并根据自旋锁计数单节点虚拟机同步需求，根据网络数据包计数判断跨节点虚拟机同步请求；根据虚拟机类型、网络数据包计数、自旋锁计数以及同步请求信号，确定vCPU队列中下一次被调入运行的vCPU；其系统包括虚拟机信息采集模块、信息处理模块、虚拟CPU动态分配模块、虚拟CPU调度模块；本发明通过对高性能应用的虚拟机与普通应用的虚拟机进行区分，并让所有相关vCPU同时运行，解决了高性能计算在云平台上的并行应用的同步延迟频繁问题。
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公开(公告)号：CN105955796A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610256113.7
申请日：2016-04-22
Applicant: 华中科技大学
CPC classification number: G06F9/45533 , G06F9/4843
Abstract: 本发明公开了一种云平台上高性能并行应用的调度方法及系统；其方法为：设置虚拟机类型；采集网络数据包信息和自旋锁信息，并发送给宿主机；宿主机根据Hypercall调用号获取信息处理函数，获取自旋锁计数和网络数据包计数，并根据自旋锁计数单节点虚拟机同步需求，根据网络数据包计数判断跨节点虚拟机同步请求；根据虚拟机类型、网络数据包计数、自旋锁计数以及同步请求信号，确定vCPU队列中下一次被调入运行的vCPU；其系统包括虚拟机信息采集模块、信息处理模块、虚拟CPU动态分配模块、虚拟CPU调度模块；本发明通过对高性能应用的虚拟机与普通应用的虚拟机进行区分，并让所有相关vCPU同时运行，解决了高性能计算在云平台上的并行应用的同步延迟频繁问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104108053A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410275439.5
申请日：2014-06-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: B24B1/00
CPC classification number: C23F4/00
Abstract: 本发明公开了一种金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法，该方法首先采用射频振荡产生等离子体磁流体通道，对待抛光加工的金属表面凸起部位进行脉冲放电，产生的等离子弧经过磁流体通道后，得到强度和密度增强的等离子弧，该增强等离子弧对金属表面凸起部位进行轰击，使该部位形成阳极斑点后蒸发去除，并通过放电极性的调节实现去除凸起的光亮化，实现该位置的抛光加工。本发明方法解决了常规金属表面抛光方法的加工效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。能够在大气压下进行，可实现粗抛、细抛和精抛，不需要在金属抛光表面涂上任何研磨液和化学反应物，精密化抛光后形成的表面粗糙度小，可达到Ra0.2μm。
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公开(公告)号：CN104108054A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410276148.8
申请日：2014-06-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置，目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子炬、加工保护罩、控制电路和联动机构；本发明是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光，不需要真空室和特制的抛光液，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的几倍，并且是无应力加工，无表面和亚表层损伤、无表面污染，抛光工件的表面粗糙度可达到Ra0.2μm。
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公开(公告)号：CN104108054B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201410276148.8
申请日：2014-06-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置，目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子体炬、加工保护罩、控制电路和联动机构；本发明是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光，不需要真空室和特制的抛光液，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的几倍，并且是无应力加工，无表面和亚表层损伤、无表面污染，抛光工件的表面粗糙度可达到Ra 0.2μm。
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公开(公告)号：CN104108053B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201410275439.5
申请日：2014-06-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法，该方法首先采用射频振荡产生等离子体磁流体通道，对待抛光加工的金属表面凸起部位进行脉冲放电，产生的等离子弧经过磁流体通道后，得到强度和密度增强的等离子弧，该增强等离子弧对金属表面凸起部位进行轰击，使该部位形成阳极斑点后蒸发去除，并通过放电极性的调节实现去除凸起的光亮化，实现该位置的抛光加工。本发明方法解决了常规金属表面抛光方法的加工效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。能够在大气压下进行，可实现粗抛、细抛和精抛，不需要在金属抛光表面涂上任何研磨液和化学反应物，精密化抛光后形成的表面粗糙度小，可达到Ra0.2μm。
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公开(公告)号：CN203901020U
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201420329428.6
申请日：2014-06-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本实用新型涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置，目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子炬、加工保护罩、控制电路和联动机构；本实用新型是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光，不需要真空室和特制的抛光液，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的几倍，并且是无应力加工，无表面和亚表层损伤、无表面污染，抛光工件的表面粗糙度可达到Ra0.2μm。
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