公开(公告)号：CN116462795A

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202310362545.6

申请日：2023-04-06

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 朱明强 ,  彭玲艳 ,  李冲

IPC: C08F220/36 ,  G03F7/00 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种成膜树脂、化学增幅型紫外正性光刻胶及其使用方法。本发明提出的化学增幅型紫外正性光刻胶成膜树脂包括成膜树脂、对苯磺酸苄酯类化合物光产酸剂和有机溶剂。该光刻胶含有双重光响应单元，大大加快链式反应进程，双重光敏单元在光辐照下产生成倍的酸，大量的酸催化聚合物分子链中的酸敏单元发生反应，脱去保护基团，从而溶解于碱性显影液中，曝光部分与非曝光部分产生溶解反差，催化完成后重新释放出酸，而释放出的酸又能继续催化聚合物发生变化，通过链式反应来降低体系曝光所需能量，从而大幅度提高了光刻胶的光敏感度。

公开(公告)号：CN116462795B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202310362545.6

申请日：2023-04-06

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 朱明强 ,  彭玲艳 ,  李冲

IPC: C08F220/36 ,  G03F7/00 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种成膜树脂、化学增幅型紫外正性光刻胶及其使用方法。本发明提出的化学增幅型紫外正性光刻胶成膜树脂包括成膜树脂、对苯磺酸苄酯类化合物光产酸剂和有机溶剂。该光刻胶含有双重光响应单元，大大加快链式反应进程，双重光敏单元在光辐照下产生成倍的酸，大量的酸催化聚合物分子链中的酸敏单元发生反应，脱去保护基团，从而溶解于碱性显影液中，曝光部分与非曝光部分产生溶解反差，催化完成后重新释放出酸，而释放出的酸又能继续催化聚合物发生变化，通过链式反应来降低体系曝光所需能量，从而大幅度提高了光刻胶的光敏感度。