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公开(公告)号:CN109060900B
公开(公告)日:2020-07-10
申请号:CN201810906071.6
申请日:2018-08-10
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于红外光谱技术领域,更具体地,涉及一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备和应用。其以衰减全反射晶片为基底,在所述基底的表面设置有掺硼金刚石薄膜层,所述掺硼金刚石薄膜层的电阻率为10‑3~1Ω·cm;红外光以一定角度入射至所述衰减全反射晶片内表面,该内表面与所述掺硼金刚石薄膜层相邻,所述红外光在该内表面上发生折射和反射,折射后的红外光进入所述掺硼金刚石薄膜层,且在所述掺硼金刚石薄膜层内发生全发射。该晶片实现良好导电作用的同时又使得红外信号检测成为可能,可实现待测分子在BDD电极表面电化学过程中的原位电化学检测,在电化学、原位红外检测领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN109060900A
公开(公告)日:2018-12-21
申请号:CN201810906071.6
申请日:2018-08-10
Applicant: 华中科技大学
CPC classification number: G01N27/26 , C23C16/278 , G01N21/35
Abstract: 本发明属于红外光谱技术领域,更具体地,涉及一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备和应用。其以衰减全反射晶片为基底,在所述基底的表面设置有掺硼金刚石薄膜层,所述掺硼金刚石薄膜层的电阻率为10‑3~1Ω·cm;红外光以一定角度入射至所述衰减全反射晶片内表面,该内表面与所述掺硼金刚石薄膜层相邻,所述红外光在该内表面上发生折射和反射,折射后的红外光进入所述掺硼金刚石薄膜层,且在所述掺硼金刚石薄膜层内发生全发射。该晶片实现良好导电作用的同时又使得红外信号检测成为可能,可实现待测分子在BDD电极表面电化学过程中的原位电化学检测,在电化学、原位红外检测领域具有广阔的应用前景。
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