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公开(公告)号：CN107659283B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201710857320.2
申请日：2017-09-21
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
Abstract: 本发明属于温控隔振结构制备工艺领域，并具体公开了一种基于SOI‑MEMS的温控隔振平台加工方法，其包括如下步骤：选取SOI硅片，使其顶硅层进行外延生长，形成与顶硅层晶体结构相同的硅外延生长层，在硅外延生长层的表面形成第一绝缘层；在第一绝缘层的表面制备加热单元、第一焊盘、温度传感单元、第二焊盘和互连导线；在第一绝缘层上制备第二绝缘层，然后制备MEMS振荡器结合焊盘、第三焊盘和输出互连导线；刻蚀第二绝缘层和第一绝缘层形成沟槽，并刻蚀基底层以获得所需的锚定结构，然后刻蚀硅外延生长层使其与沟槽导通，最后刻蚀二氧化硅埋氧层以此制备获得所需的温控隔振平台。本发明具有制备工艺简单、可操作性强等优点。
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公开(公告)号：CN107697880A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201710857319.X
申请日：2017-09-21
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
CPC classification number: B81B7/0083 , B81B7/02
Abstract: 本发明属于MEMS器件核心结构设计领域，并具体公开了一种基于SOI-MEMS的温控隔振平台，其从下至上依次设置有锚定结构层、隔振悬臂结构层、温控平台层和MEMS振荡器连接层，隔振悬臂结构层与温控平台层之间、温控平台层和MEMS振荡器连接层之间设置有绝缘层；温控平台层包括加热单元、温度传感单元、焊盘及互连导线，MEMS振荡器连接层包括MEMS振荡器结合焊盘、焊盘以及两者之间的输出互连导线。本发明适用于MEMS振荡器等器件的温度控制与隔振，具有整体体积小、频率输出稳定、功耗低、结构简单、适用性强等优点，特别适合小型化、高稳定频率基准的应用领域。
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公开(公告)号：CN107659283A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710857320.2
申请日：2017-09-21
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
Abstract: 本发明属于温控隔振结构制备工艺领域，并具体公开了一种基于SOI-MEMS的温控隔振平台加工方法，其包括如下步骤：选取SOI硅片，使其顶硅层进行外延生长，形成与顶硅层晶体结构相同的硅外延生长层，在硅外延生长层的表面形成第一绝缘层；在第一绝缘层的表面制备加热单元、第一焊盘、温度传感单元、第二焊盘和互连导线；在第一绝缘层上制备第二绝缘层，然后制备MEMS振荡器结合焊盘、第三焊盘和输出互连导线；刻蚀第二绝缘层和第一绝缘层形成沟槽，并刻蚀基底层以获得所需的锚定结构，然后刻蚀硅外延生长层使其与沟槽导通，最后刻蚀二氧化硅埋氧层以此制备获得所需的温控隔振平台。本发明具有制备工艺简单、可操作性强等优点。
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公开(公告)号：CN117284426A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311305319.0
申请日：2023-10-10
Applicant: 华中科技大学
IPC: B63B27/36
Abstract: 本发明涉及船艇收放浮动托架的领域，公开了一种船艇收放浮动托架，该托架包括船艇收放主体和对接杆，且对接杆设置在所述船艇收放主体内部的首部位置；对接杆与船艇收放方向基本垂直、且与船艇收放主体的内部底面平行设置，用于与船艇上的捕捉器对接或从船艇上的捕捉器脱离。本发明的托架结合了吊放式与拖曳式回收的特点，提出拖曳吊放式的回收方式，具备自动对接、稳定起吊的优点，系统由机械构件、浮体材料和对接装置三大部分组成，以实现在水面拖曳，并满足11m级小艇的自动回收释放功能，同时简化机械结构以提高回收系统可靠性。
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公开(公告)号：CN107876976A
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201711379604.1
申请日：2017-12-20
Applicant: 华中科技大学 , 武汉松盛光电科技有限公司
IPC: B23K26/146
CPC classification number: B23K26/146 , B23K26/1462
Abstract: 本发明涉及激光加工领域，公开了一种液膜射流导引激光加工装置，包括聚焦透镜，激光窗，高压水腔，狭缝喷嘴，所述高压水腔的顶部为所述激光窗，底部开有所述狭缝喷嘴，外部激光源发出的激光束经所述聚焦透镜后，透过激光窗投射到所述狭缝喷嘴，所述高压水腔内的高压水经所述狭缝喷嘴喷出形成液膜射流，所述液膜射流对准被加工的工件，所述激光束以所述液膜射流为传输介质输出到工件上。通过采用液膜导引激光束形成的线激光光斑加工可有效避免传统“干”式线激光光斑加工过程中的高热应力、毛刺、表面污染等影响。同时亦可改善毛细管微水射流导引激光加工效率低和面加工处理难的缺点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107671416A
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201710854711.9
申请日：2017-09-20
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
IPC: B23K26/00 , B23K26/70 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC classification number: Y02A20/131 , B23K26/00 , B23K26/70 , B23K26/702 , B23K26/703 , C02F1/44 , C02F1/441 , C02F2103/08
Abstract: 本发明属于水下激光加工领域，具体涉及一种水下携载的气水同轴射流辅助激光加工系统，其包括激光器、海水冷却系统、海水淡化系统、纯水冷却系统和激光-气水同轴射流耦合头，所述海水冷却系统对激光器及其密封舱进行冷却，所述海水淡化系统采用反渗透海水淡化装置将海水淡化为纯水，所述利用淡化后的纯水对不能接触海水的激光晶体进行冷却，纯水用于耦合头的射流用水，上述海水淡化系统、海水冷却系统和纯水冷却系统，协助激光器和耦合头形成激光-气水同轴射流，对工件表面进行加工。该装置有效地利用了海水资源实现冷却功能，提高了关键部件的使用寿命，提高水下激光加工装置的加工质量。
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公开(公告)号：CN107457482A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710823414.8
申请日：2017-09-13
Applicant: 华中科技大学 , 武汉松盛光电科技有限公司
IPC: B23K26/067 , B23K26/146
Abstract: 本发明属于激光加工领域，并具体公开了一种阵列式光波导液体射流装置及方法，其通过设置包括衍射光学元件和聚焦透镜组的激光束发生单元，以使激光束经衍射光学元件分为多束激光束子束，多束激光束子束再经聚焦透镜组以及透明激光窗口射出；然后通过设置射流喷射单元和液体供应单元，以在喷嘴中形成收缩水射流，多束激光束子束在喷嘴入口处与水射流耦合，以耦合形成水束光纤，并经对应的喷嘴以阵列的形式射出。本发明有效解决水射流导引激光加工时加工效率低、精度难以控制的问题，具有结构简单、操作方便、适用性强等优点。
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公开(公告)号：CN107697880B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201710857319.X
申请日：2017-09-21
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
Abstract: 本发明属于MEMS器件核心结构设计领域，并具体公开了一种基于SOI‑MEMS的温控隔振平台，其从下至上依次设置有锚定结构层、隔振悬臂结构层、温控平台层和MEMS振荡器连接层，隔振悬臂结构层与温控平台层之间、温控平台层和MEMS振荡器连接层之间设置有绝缘层；温控平台层包括加热单元、温度传感单元、焊盘及互连导线，MEMS振荡器连接层包括MEMS振荡器结合焊盘、焊盘以及两者之间的输出互连导线。本发明适用于MEMS振荡器等器件的温度控制与隔振，具有整体体积小、频率输出稳定、功耗低、结构简单、适用性强等优点，特别适合小型化、高稳定频率基准的应用领域。
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公开(公告)号：CN107671416B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201710854711.9
申请日：2017-09-20
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
IPC: B23K26/00 , B23K26/70 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC classification number: Y02A20/131
Abstract: 本发明属于水下激光加工领域，具体涉及一种水下携载的气水同轴射流辅助激光加工系统，其包括激光器、海水冷却系统、海水淡化系统、纯水冷却系统和激光‑气水同轴射流耦合头，所述海水冷却系统对激光器及其密封舱进行冷却，所述海水淡化系统采用反渗透海水淡化装置将海水淡化为纯水，所述利用淡化后的纯水对不能接触海水的激光晶体进行冷却，纯水用于耦合头的射流用水，上述海水淡化系统、海水冷却系统和纯水冷却系统，协助激光器和耦合头形成激光‑气水同轴射流，对工件表面进行加工。该装置有效地利用了海水资源实现冷却功能，提高了关键部件的使用寿命，提高水下激光加工装置的加工质量。
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公开(公告)号：CN107695514A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201710852606.1
申请日：2017-09-20
Applicant: 华中科技大学
Inventor： 刘炎
IPC: B23K26/00 , B23K26/122 , B23K26/70
CPC classification number: B23K26/00 , B23K26/1224 , B23K26/702
Abstract: 本发明属于水下激光加工领域，具体公开了一种激光-气水同轴射流的耦合头及水下激光加工装置，其包括同轴依次设置的激光调整装置、高压水腔壁和辅助气腔壁，传能光纤接头、准直透镜、聚焦透镜、激光窗口、水射流喷嘴和气水同轴射流喷嘴均位于该耦合头的轴线上，从传能光纤接头引入的激光束依次经过准直透镜和聚焦透镜后从激光窗口射出，与水射流形成光-水耦合射流后，与气射流形成同轴射流并喷出，对被加工元件进行加工。本发明还公开了一种水下气水同轴射流辅助激光加工装置。本发明能够降低在水下对激光聚焦控制精度的要求，并能够隔离海水对激光束、高压射流水束及加工质量的影响，同时具有装置结构简单、成本低廉、易操作等优点。
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