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公开(公告)号：CN113190992B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202110456898.3
申请日：2021-04-27
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F30/20 , G06F113/26
Abstract: 本发明公开了一种共混挤出过程纤维长度分布预测方法、装置、设备和介质。所述方法包括：(1)获取预设共混挤出过程所对应的流场数据，所述流场数据包括剪切速率场和停留时间，所述剪切速率场包括沿共混挤出方向依次排列的N个剪切速率值，N≥2；(2)基于质量守恒原则建立纤维长度分布预测模型，将待进行共混挤出过程的初始纤维长度分布作为所述预测模型的初始输入，然后沿共混挤出方向利用所述预测模型依次对每个剪切速率值进行纤维长度分布预测处理，将前一次纤维长度分布的预测结果作为后一次纤维长度分布预测的预测处理输入，直至预测得到共混挤出过程完成时的纤维长度分布。本发明能够预测共混挤出过程整个纤维长度分布的信息。
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公开(公告)号：CN113295738B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202110739032.3
申请日：2021-06-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N27/22
Abstract: 本发明属于聚合物分子取向测量相关技术领域，其公开了一种用于测量聚合物成型过程中分子取向的装置及测量方法，装置包括：同轴圆筒探针，包括屏蔽层、绝缘层以及2n个电极，n≥2，2n个电极间隔镶嵌于绝缘层的一圆周面上，圆周面上同一直径上的两电极为一组，所述2n个电极生成至少2组电极；复介电常数测量单元与所述2n个电极连接，用于通过每组电极检测对应方向上聚合物分子的介电常数；取向计算模块与所述复介电常数测量单元连接，用于根据每组电极的介电常数获得该组电极检测处对应的聚合物分子的取向值。本申请可以实现多个方向上取向张量的准确测量，抗干扰能力强，非常适用于工业化制备和应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113190992A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110456898.3
申请日：2021-04-27
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F30/20 , G06F113/26
Abstract: 本发明公开了一种共混挤出过程纤维长度分布预测方法、装置、设备和介质。所述方法包括：(1)获取预设共混挤出过程所对应的流场数据，所述流场数据包括剪切速率场和停留时间，所述剪切速率场包括沿共混挤出方向依次排列的N个剪切速率值，N≥2；(2)基于质量守恒原则建立纤维长度分布预测模型，将待进行共混挤出过程的初始纤维长度分布作为所述预测模型的初始输入，然后沿共混挤出方向利用所述预测模型依次对每个剪切速率值进行纤维长度分布预测处理，将前一次纤维长度分布的预测结果作为后一次纤维长度分布预测的预测处理输入，直至预测得到共混挤出过程完成时的纤维长度分布。本发明能够预测共混挤出过程整个纤维长度分布的信息。
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公开(公告)号：CN113295738A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110739032.3
申请日：2021-06-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N27/22
Abstract: 本发明属于聚合物分子取向测量相关技术领域，其公开了一种用于测量聚合物成型过程中分子取向的装置及测量方法，装置包括：同轴圆筒探针，包括屏蔽层、绝缘层以及2n个电极，n≥2，2n个电极间隔镶嵌于绝缘层的一圆周面上，圆周面上同一直径上的两电极为一组，所述2n个电极生成至少2组电极；复介电常数测量单元与所述2n个电极连接，用于通过每组电极检测对应方向上聚合物分子的介电常数；取向计算模块与所述复介电常数测量单元连接，用于根据每组电极的介电常数获得该组电极检测处对应的聚合物分子的取向值。本申请可以实现多个方向上取向张量的准确测量，抗干扰能力强，非常适用于工业化制备和应用。
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公开(公告)号：CN110687075B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201911028089.1
申请日：2019-10-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/45
Abstract: 本发明属于光学制件均匀性检测技术领域，并具体公开了一种光学制件均匀性干涉检测方法，其包括如下步骤：S1激光束经分束器分为测试光束和普通光束，测试光束通过装有与待测光学制件材料的折射率相同的折射率匹配溶液的透明槽后，与普通光束发生干涉形成相干光束；S2将待测光学制件浸入折射率匹配溶液中，再次进行干涉形成相干光束；S3由浸入待测光学制件前后的相干光束的干涉条纹数得到待测光学制件的折射率偏差，即可得到待测光学制件的均匀性情况。本发明结合干涉技术与折射率匹配装置，并对光路进行设计，完成光学制件的均匀性检测，为复杂面形光学制件的折射率均匀性检测提供了一种效率高、准确度高、可行性强的方法。
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公开(公告)号：CN110687075A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201911028089.1
申请日：2019-10-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/45
Abstract: 本发明属于光学制件均匀性检测技术领域，并具体公开了一种光学制件均匀性干涉检测方法，其包括如下步骤：S1激光束经分束器分为测试光束和普通光束，测试光束通过装有与待测光学制件材料的折射率相同的折射率匹配溶液的透明槽后，与普通光束发生干涉形成相干光束；S2将待测光学制件浸入折射率匹配溶液中，再次进行干涉形成相干光束；S3由浸入待测光学制件前后的相干光束的干涉条纹数得到待测光学制件的折射率偏差，即可得到待测光学制件的均匀性情况。本发明结合干涉技术与折射率匹配装置，并对光路进行设计，完成光学制件的均匀性检测，为复杂面形光学制件的折射率均匀性检测提供了一种效率高、准确度高、可行性强的方法。
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公开(公告)号：CN110687074A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201911028168.2
申请日：2019-10-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光学制件均匀性检测技术领域，并具体公开了一种基于波前传感器的光学制件均匀性检测装置与方法，包括依次同轴放置的激光器、扩束器、偏振片、透明槽、成像镜组和波前传感器，透明槽中装有与待测光学制件材料折射率相同的折射率匹配溶液；检测时，激光器发出的激光经扩束器扩束后，通过偏振片成为偏振光，该偏振光依次通过透明槽前壁、折射率匹配溶液、透明槽后壁，然后由成像镜组成像，所形成的图像由波前传感器获取得到此时的波前差，进而通过有无制件时的波前差，得到制件折射率均匀性情况。本发明有效降低了制件几何形状对折射率检测的影响，为检测具有面形的光学制件的折射率均匀性提供了高效、适用性强、高精度的方法和装置。
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