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公开(公告)号：CN111876712A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN202011042993.0
申请日：2020-09-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于热浸镀技术领域，更具体地，涉及一种管状工件的电磁内抹拭装置。本发明提供的管状工件的电磁内抹拭装置，其包括线圈部以及连接该线圈部的第一连接件和第二连接件，该线圈部包括单相交流线圈，以及分别与该第一连接件和第二连接件固定连接的第一连接杆和第二连接杆，通过对该内抹拭装置结构的特别设计，不仅保证了其线圈部在管状工件内运动时能够同时产生径向和斜向下的电磁力，以实现管件内表面镀层的高效均匀抹拭，而且该电磁抹拭装置还能够在具有足够大的强度下确保其线圈产生的电磁力不会被金属屏蔽，使得该装置在管状工件内部高速运动时，对镀层产生较大的电磁抹拭力的同时，不影响管状工件内表面镀层质量。
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公开(公告)号：CN102412753B
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201110376569.4
申请日：2011-11-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: H02M9/00
Abstract: 本发明公开了一种高压大功率重复脉冲功率电源，包括充电电源、储能电容组、残压处理支路和能量回馈支路，储能电容组包括串联连接的主电容C1和副电容C2，两者的电容值相同，极性方向相反；能量回馈支路与储能电容组并联连接，残压处理支路并联在副电容C2的两端，充电电源并联在主电容C1两端。本发明采用双电容储能放电的形式，可以使主电容上无反压，副电容上无反压或只承受10％以下的反压，从而提高了单极性电容的可靠性和工作寿命以及系统的工作频率，是一种新型的基于双电容放电、谐振方式能量回馈、储能电容残压处理的紧凑型重复脉冲功率电源。
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公开(公告)号：CN109062303B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201810411004.7
申请日：2018-05-02
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种高稳定度平顶脉冲强磁场发生装置，包括蓄电池组、磁体、串联电阻R0、调节旁路、实时控制器及观测电流传感器CT0；其中，调节旁路由调控半导体Q，瞬态抑制二极管TVS，监测电流传感器CT及旁路二极管Db组成。蓄电池组正极通过串联电阻同磁体一端连接，磁体一端同调节旁路正极端连接，蓄电池组负极、磁体另一端及调节旁路负极端相互连接，实时控制器的磁体输入端同观测电流传感器的输出端连接，实时控制器的旁路输出端同调节旁路的控制端连接，观测电流传感器用于采集磁体电流信号，实时控制器根据磁体电流信号变化趋势输出控制信号，控制调节旁路中电流实现连续调节磁体电压，使磁体产生无纹波高稳定度平顶脉冲强磁场。
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公开(公告)号：CN109062303A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201810411004.7
申请日：2018-05-02
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种高稳定度平顶脉冲强磁场发生装置，包括蓄电池组、磁体、串联电阻R0、调节旁路、实时控制器及观测电流传感器CT0；其中，调节旁路由调控半导体Q，瞬态抑制二极管TVS，监测电流传感器CT及旁路二极管Db组成。蓄电池组正极通过串联电阻同磁体一端连接，磁体一端同调节旁路正极端连接，蓄电池组负极、磁体另一端及调节旁路负极端相互连接，实时控制器的磁体输入端同观测电流传感器的输出端连接，实时控制器的旁路输出端同调节旁路的控制端连接，观测电流传感器用于采集磁体电流信号，实时控制器根据磁体电流信号变化趋势输出控制信号，控制调节旁路中电流实现连续调节磁体电压，使磁体产生无纹波高稳定度平顶脉冲强磁场。
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公开(公告)号：CN113258905A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110782825.3
申请日：2021-07-12
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明提供一种多电源协同供电产生平顶脉冲强磁场的装置及方法，主要包括：高压电容器电源，由高压电容器组和晶闸管构成；蓄电池电源，由蓄电池组、第一直流断路器和换流开关构成；超级电容器电源，由超级电容器组、第二直流断路器和多相交错并联DC/DC变换器构成；高压隔离单元；续流支路；磁体；工作过程如下，首先高压电容器电源对磁体放电，使其电流快速上升，然后当高压电容器组电压低于蓄电池组电压时，二者换流，换流后超级电容器电源和蓄电池电源同时对磁体供电，通过多相交错并联DC/DC变换器对磁体电流进行负反馈控制产生平顶磁场，放电结束后，由续流回路释放磁体能量。综上，产生高稳定度、长持续时间、高平顶占比平顶脉冲磁场。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110079755A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910470822.9
申请日：2019-05-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开一种适用于棒状工件的三相电磁抹拭装置，包括：线圈骨架中心有通孔，通孔可供棒状工件向上运动穿过，棒状工件表面粘附有液态镀层；至少一组三相线圈沿轴向排列依次绕制在线圈骨架的外侧；当至少一组三相线圈通电后，各相线圈产生交变磁场，至少一组三相线圈在线圈骨架的中心合成行波磁场；通孔中有棒状工件向上运动穿过时，在各相线圈产生的交变磁场的作用下，感应产生斜向下的第一电磁力，在行波磁场的作用下，感应产生与棒状工件运动方向相反的第二电磁力，第一电磁力和第二电磁力阻止液态镀层向上移动，克服镀层之间的粘附力，将镀层压缩，并将多余的镀层抹拭，以控制棒状工件的镀层厚度。本发明提供的装置具有很好的抹拭效果。
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公开(公告)号：CN110079755B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN201910470822.9
申请日：2019-05-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开一种适用于棒状工件的三相电磁抹拭装置，包括：线圈骨架中心有通孔，通孔可供棒状工件向上运动穿过，棒状工件表面粘附有液态镀层；至少一组三相线圈沿轴向排列依次绕制在线圈骨架的外侧；当至少一组三相线圈通电后，各相线圈产生交变磁场，至少一组三相线圈在线圈骨架的中心合成行波磁场；通孔中有棒状工件向上运动穿过时，在各相线圈产生的交变磁场的作用下，感应产生斜向下的第一电磁力，在行波磁场的作用下，感应产生与棒状工件运动方向相反的第二电磁力，第一电磁力和第二电磁力阻止液态镀层向上移动，克服镀层之间的粘附力，将镀层压缩，并将多余的镀层抹拭，以控制棒状工件的镀层厚度。本发明提供的装置具有很好的抹拭效果。
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公开(公告)号：CN111926278B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN202011019159.X
申请日：2020-09-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于热浸镀领域，更具体地，涉及一种带状工件的三相电磁抹拭装置及热浸镀系统。该装置包含电磁抹拭单元，该电磁抹拭单元包含磁极相对的第一磁场发生器和第二磁场发生器；所述第一磁场发生器和第二磁场发生器均包括铁芯和至少一组三相线圈；每一组所述三相线圈包括A相线圈、B相线圈和C相线圈；所述A相线圈、B相线圈和C相线圈依次围绕所述铁芯上排列设置的凸起磁极而绕制。相比主磁通方向在竖直方向的三相电磁抹拭装置，该装置的主磁通方向为垂直于带状工作所在平面的法线方向，因此在平行于带状工件的切线方向上的磁场梯度变化更大，产生的切向电磁力更大，从而提高抹拭效率。
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公开(公告)号：CN111926279B
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011065083.4
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于热浸镀技术领域，更具体地，涉及一种热浸镀的双频电磁场协同封流装置及系统。该封流装置包括三相行波磁场发生器和单相交变磁场发生器，其中：三相行波磁场发生器设置于封流通道外侧，单相交变磁场发生器设置于该三相行波磁场发生器下方，且设置于封流通道的底部镀液液位以下。三相行波磁场发生器中通入的三相交流电的频率低于单相交变磁场发生器中通入的单相交流电的频率。该封流装置能够产生基于行波磁场的行波电磁力以及基于单相交变磁场的电磁斥力，二者共同作用，既能提供较大的电磁力以抵消镀液所受重力，又能稳定镀液，避免镀液受工件运动的影响发生流动变形造成受力不均而导致漏液。
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公开(公告)号：CN111926279A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN202011065083.4
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于热浸镀技术领域，更具体地，涉及一种热浸镀的双频电磁场协同封流装置及系统。该封流装置包括三相行波磁场发生器和单相交变磁场发生器，其中：三相行波磁场发生器设置于封流通道外侧，单相交变磁场发生器设置于该三相行波磁场发生器下方，且设置于封流通道的底部镀液液位以下。三相行波磁场发生器中通入的三相交流电的频率低于单相交变磁场发生器中通入的单相交流电的频率。该封流装置能够产生基于行波磁场的行波电磁力以及基于单相交变磁场的电磁斥力，二者共同作用，既能提供较大的电磁力以抵消镀液所受重力，又能稳定镀液，避免镀液受工件运动的影响发生流动变形造成受力不均而导致漏液。
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