一种TiSiN/NiTiAlCoCrN抗空蚀纳米多层膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN116555707A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310600052.1

    申请日:2023-05-25

    Abstract: 一种TiSiN/NiTiAlCrCoN抗空蚀纳米多层膜及其制备方法,属于抗空蚀薄膜技术领域。抗空蚀薄膜由过渡层、周期多层结构、工作层组成;过渡层位于基体与工作层之间,过渡层成分为TiN;周期多层结构由若干层调制周期层组成,单层调制周期层由一层模板层和一层调制层组成,模板层成分为NiTiAlCoCrN,调制层成分为TiSiN;工作层为NiTiAlCrCoN。采用溅射方法制备抗空蚀薄膜,在基体上沉积TiN层作为过渡层;然后周期性交替沉积NiTiAlCoCrN层与TiSiN层;最后沉积NiTiAlCoCrN工作层。本发明具有结合强度高、硬度高、抗空蚀性能良好等特点,可用于流体机械的叶片表面涂层。

Patent Agency Ranking