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公开(公告)号：CN119854655A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510111927.0
申请日：2025-01-23
Applicant: 北京邮电大学
IPC: H04N23/957 , H04N23/83 , H04N9/31 , H04N25/76 , H04N9/69
Abstract: 本发明公开了负片照射廓明成像方法及系统，属于光学技术领域，其方法包括如下步骤：S1：搭建负片照射廓明成像系统；S2：采集CCD图像数据，对CCD图像数据进行初始处理；S3：对投影进行调整，完成土体形状特征的初步猜想；S4：通过算法迭代，将生成的预测投影效果和实际投影效果进行比对，不断优化，输出最终的高分辨率图像；S5：计算机根据最终的轮廓信息，对高分辨率图像进行处理，最终得到清晰的分辨率板图像。本发明解决现有的成像分辨率低、设备复杂且成本高及对样本有损伤或限制应用场景的问题。本发明可提高成像分辨率，降低设备复杂度和成本，可避免对样本造成损伤，适用于对样本完整性要求高的应用场景。
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