一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室

    公开(公告)号:CN110658149B

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN201911042266.1

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明公开了一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室,属于红外气体传感器领域,具体包括上层硅片和下层硅片;上层硅片和下层硅片通过键合方式连接;上层硅片包括红外光源窗口和红外探测器窗口;下层硅片上设置气室腔体和气体扩散槽;红外光源窗口和红外探测器窗口为贯穿上层硅片的通孔;气室腔体为棱台型结构;气体扩散槽位于下层硅片与上层硅片交界面的四周;棱台型两端的斜面为反射面,气室腔体与上层硅片的下表面反射面构成红外光的反射腔室;气体扩散槽用于使外界气体进入气室腔体的内部。本发明公开的硅基气室便于与红外光源、探测器和其他电路模块在外部集成,提高集成设计自由度。

    一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室

    公开(公告)号:CN110658149A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201911042266.1

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明公开了一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室,属于红外气体传感器领域,具体包括上层硅片和下层硅片;上层硅片和下层硅片通过键合方式连接;上层硅片包括红外光源窗口和红外探测器窗口;下层硅片上设置气室腔体和气体扩散槽;红外光源窗口和红外探测器窗口为贯穿上层硅片的通孔;气室腔体为棱台型结构;气体扩散槽位于下层硅片与上层硅片交界面的四周;棱台型两端的斜面为反射面,气室腔体与上层硅片的下表面反射面构成红外光的反射腔室;气体扩散槽用于使外界气体进入气室腔体的内部。本发明公开的硅基气室便于与红外光源、探测器和其他电路模块在外部集成,提高集成设计自由度。

    一种微型化全集成NDIR气体传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN110927094B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201911161561.9

    申请日:2019-11-20

    Abstract: 本发明公开了一种微型化全集成NDIR气体传感器及其制备方法,属于红外气体传感器技术领域。该传感器包括光电探测器、MEMS红外光源、上层硅片、下层衬底和信号处理ASIC芯片;所述上层硅片和下层衬底键合形成气室,气室内蒸镀有反射层,硅片键合面上分布有气体扩散槽;所述光电探测器、MEMS红外光源和信号处理ASIC芯片设于所述气室上部,在所述上层硅片上开设有分别对准所述光电探测器和MEMS红外光源的光电探测器窗口和红外光源窗口,MEMS红外光源发出的光从红外光源窗口入射至所述反射层,发生多次反射后进入光电探测器。本发明利用MEMS工艺实现了NDIR气体传感器的进一步微型化、全集成,并提高了灵敏度。

    一种微型化全集成NDIR气体传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN110927094A

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201911161561.9

    申请日:2019-11-20

    Abstract: 本发明公开了一种微型化全集成NDIR气体传感器及其制备方法,属于红外气体传感器技术领域。该传感器包括光电探测器、MEMS红外光源、上层硅片、下层衬底和信号处理ASIC芯片;所述上层硅片和下层衬底键合形成气室,气室内蒸镀有反射层,硅片键合面上分布有气体扩散槽;所述光电探测器、MEMS红外光源和信号处理ASIC芯片设于所述气室上部,在所述上层硅片上开设有分别对准所述光电探测器和MEMS红外光源的光电探测器窗口和红外光源窗口,MEMS红外光源发出的光从红外光源窗口入射至所述反射层,发生多次反射后进入光电探测器。本发明利用MEMS工艺实现了NDIR气体传感器的进一步微型化、全集成,并提高了灵敏度。

    一种薄膜场效应晶体管型气体传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN108447915B

    公开(公告)日:2020-11-24

    申请号:CN201810174504.3

    申请日:2018-03-02

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜场效应晶体管(TFT)型气体传感器及其制备方法,其中该传感器为底栅顶接触式结构或底栅底接触式结构的薄膜场效应晶体管;以底栅顶接触式结构的薄膜场效应晶体管为例,该晶体管自下而上包括衬底、栅极绝缘层、沟道有源层,沟道有源层为量子点薄膜,其上方沉积有源电极和漏电极;衬底还引出有栅电极。本发明通过对薄膜场效应晶体管型气体传感器其内部组成及结构、相应制备方法的整体工艺及各个步骤的参数进行改进,以量子点薄膜同时作为沟道有源层和气体敏感层,利用栅极偏压的调控综合多参数的气体响应,制备出高灵敏、低功耗和高选择性气体传感器,达到检测低浓度目标气体如NO2、H2S的效果。

    一种薄膜场效应晶体管型气体传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN108447915A

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201810174504.3

    申请日:2018-03-02

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜场效应晶体管(TFT)型气体传感器及其制备方法,其中该传感器为底栅顶接触式结构或底栅底接触式结构的薄膜场效应晶体管;以底栅顶接触式结构的薄膜场效应晶体管为例,该晶体管自下而上包括衬底、栅极绝缘层、沟道有源层,沟道有源层为量子点薄膜,其上方沉积有源电极和漏电极;衬底还引出有栅电极。本发明通过对薄膜场效应晶体管型气体传感器其内部组成及结构、相应制备方法的整体工艺及各个步骤的参数进行改进,以量子点薄膜同时作为沟道有源层和气体敏感层,利用栅极偏压的调控综合多参数的气体响应,制备出高灵敏、低功耗和高选择性气体传感器,达到检测低浓度目标气体如NO2、H2S的效果。

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