一种激光加载的阵列弹射工艺方法

    公开(公告)号:CN111559512A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010349872.4

    申请日:2020-04-28

    Abstract: 一种激光加载的阵列弹射工艺方法。先将整块待弹射物体、烧蚀涂层、粘结剂和透光背板组合成一体,得到一个弹射模块,压紧排空其模块内部层与层之间的空气,随后用自动加工平台将弹射模块上的整块待弹射物体切割成独立的待发射个体。将弹射模块移至激光光路合适位置,根据需要设置激光光斑和脉冲能量的大小,启动激光器发射激光,每弹射一次移动弹射模块使激光可以弹射下一个弹射物,如此可以实现连续自动的阵列弹射。本发明的阵列弹射方法通过激光烧蚀涂层激发等离子体发射,从而借助其反作用力来对微小片状的待弹射材料进行弹射,不受材料限制;具有优异的加速效果,其在0.2μs内可达1000m/s以上的速度;制备工艺简单,成本低廉,易于自动化,且精确度高和安全性高。

    一种激光加载的阵列弹射工艺方法

    公开(公告)号:CN111559512B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202010349872.4

    申请日:2020-04-28

    Abstract: 一种激光加载的阵列弹射工艺方法。先将整块待弹射物体、烧蚀涂层、粘结剂和透光背板组合成一体,得到一个弹射模块,压紧排空其模块内部层与层之间的空气,随后用自动加工平台将弹射模块上的整块待弹射物体切割成独立的待发射个体。将弹射模块移至激光光路合适位置,根据需要设置激光光斑和脉冲能量的大小,启动激光器发射激光,每弹射一次移动弹射模块使激光可以弹射下一个弹射物,如此可以实现连续自动的阵列弹射。本发明的阵列弹射方法通过激光烧蚀涂层激发等离子体发射,从而借助其反作用力来对微小片状的待弹射材料进行弹射,不受材料限制;具有优异的加速效果,其在0.2μs内可达1000m/s以上的速度;制备工艺简单,成本低廉,易于自动化,且精确度高和安全性高。

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