公开(公告)号：CN101864560B

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201010188615.3

申请日：2010-05-24

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 唐伟忠 ,  李晓静 ,  于盛旺 ,  王凤英

IPC: C23C16/27 ,  C23C16/513

Abstract: 一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备，属于金刚石膜的化学气相沉积技术领域。包括微波谐振腔的上圆柱体、微波谐振腔的下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、石英窗、等离子体、调节机构一和调节机构二。金刚石膜沉积台、微波反射体在上圆柱体和下圆柱体内部，石英窗在金刚石膜沉积台的下方；微波反射体通过调节机构一调节微波反射体的高度，调节机构二调节上圆柱体的高度，微波反射体对微波电场起反射和增强作用。上圆柱体、下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、调节机构一和调节机构二都能实现直接的水冷。本发明优点是能在高功率下，以较高速率沉积高品质的金刚石膜，设备具有可靠、方便调节等特点。

公开(公告)号：CN101864560A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN201010188615.3

申请日：2010-05-24

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 唐伟忠 ,  李晓静 ,  于盛旺 ,  王凤英

IPC: C23C16/27 ,  C23C16/513

Abstract: 一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备，属于金刚石膜的化学气相沉积技术领域。包括微波谐振腔的上圆柱体、微波谐振腔的下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、石英窗、等离子体、调节机构一和调节机构二。金刚石膜沉积台、微波反射体在上圆柱体和下圆柱体内部，石英窗在金刚石膜沉积台的下方；微波反射体通过调节机构一调节微波反射体的高度，调节机构二调节上圆柱体的高度，微波反射体对微波电场起反射和增强作用。上圆柱体、下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、调节机构一和调节机构二都能实现直接的水冷。本发明优点是能在高功率下，以较高速率沉积高品质的金刚石膜，设备具有可靠、方便调节等特点。