公开(公告)号：CN1397660A

公开(公告)日：2003-02-19

申请号：CN02116687.0

申请日：2002-04-16

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 杨会生 ,  王燕斌 ,  熊小涛

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法，其特征在于：法兰(28)安装于真空室壁上，在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27)，基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜；对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极，铁磁性靶材由中心圆形靶材(21’)和外侧环型靶材(21)组成，中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有5－60mm的间隙，溅射在间隙附近发生；靶材(21，21’)、磁极(22，22’)、磁铁(23，23’)和磁极背板(38)构成闭合磁路；其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料；靶体(33)采用具有良好导热性的材料制造。在溅射过程中，等离子体中的离子对靶材表面的轰击，将有大量的热能产生，在靶体内构造出冷却水道(39)。本发明的优点在于：克服了铁磁性靶材对磁路的屏蔽效应；增加一致性，易于安装和维护。

公开(公告)号：CN1245534C

公开(公告)日：2006-03-15

申请号：CN02116687.0

申请日：2002-04-16

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 杨会生 ,  王燕斌 ,  熊小涛

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法，其特征在于：法兰(28)安装于真空室壁上，在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27)，基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜；对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极，铁磁性靶材由中心圆形靶材(21’)和外侧环型靶材(21)组成，中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有5——60mm的间隙，溅射在间隙附近发生；靶材(21，21’)、磁极(22，22’)、磁铁(23，23’)和磁极背板(38)构成闭合磁路；其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料；靶体(33)采用具有良好导热性的材料制造。在溅射过程中，等离子体中的离子对靶材表面的轰击，将有大量的热能产生，在靶体内构造出冷却水道(39)。本发明的优点在于：克服了铁磁性靶材对磁路的屏蔽效应；增加一致性，易于安装和维护。

公开(公告)号：CN1380439A

公开(公告)日：2002-11-20

申请号：CN02116688.9

申请日：2002-04-16

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 杨会生 ,  王燕斌 ,  熊小涛

IPC: C23C14/24

Abstract: 本发明提供了一种霍尔型离子辅助蒸发源,由阴极灯丝(31)、阳极(32)、供气系统、磁路等部件组成,其特征在于:蒸发源通过法兰背板(36)安装在未详细说明的真空室壁上。在蒸发源的上部安装有可发射热电子的阴极灯丝(31),灯丝通过陶瓷绝缘垫(37)与离子源其他部件绝缘;在放电室(38)下部安装了阳极(32),在阳极上构造出装载膜料的坩埚(39),坩埚底部有水冷室(40),阳极通过螺栓(41)与下部的布气板(42)连接;在布气板上构造出环型布气槽(43)。本发明的优点在于:可以用来镀前清洗,在用金属膜料镀制非金属膜时,可以将反应气体直接馈入蒸发源内并使其离化,从而进行反应镀膜,增加反应程度。

公开(公告)号：CN107991174A

公开(公告)日：2018-05-04

申请号：CN201810011777.6

申请日：2018-01-05

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 庞晓露 ,  席烨廷 ,  高克玮 ,  熊小涛 ,  李红 ,  徐秋发

IPC: G01N3/02 ,  G01N3/04 ,  G01N3/06 ,  G01N3/20

Abstract: 本发明涉及硬质薄膜材料应力测试领域，具体涉及一种薄膜应力梯度原位演化的测试样品装置及测试方法。所述样品装置包括样片夹持部件和应力加载部件；所述样片夹持部件夹持样品，所述应力加载部件在样品上施加可调应力。利用上述装置对样品施加不同应力，实现对薄膜不同深度处应力梯度的测定。本发明填补了薄膜材料在不同服役环境下的应力梯度原位演化测量装置的空白，实现了基于X射线的薄膜应力梯度的原位加载与测试。

公开(公告)号：CN1160477C

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：CN02116688.9

申请日：2002-04-16

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 杨会生 ,  王燕斌 ,  熊小涛

IPC: C23C14/24

Abstract: 本发明提供了一种霍尔型离子辅助蒸发源，由阴极灯丝(31)、阳极(32)、供气系统、磁路等部件组成，其特征在于：蒸发源通过法兰背板(36)安装在未详细说明的真空室壁上。在蒸发源的上部安装有可发射热电子的阴极灯丝(31)，灯丝通过陶瓷绝缘垫(37)与离子源其他部件绝缘；在放电室(38)下部安装了阳极(32)，在阳极上构造出装载膜料的坩埚(39)，坩埚底部有水冷室(40)，阳极通过螺栓(41)与下部的布气板(42)连接；在布气板上构造出环型布气槽(43)。本发明的优点在于：可以用来镀前清洗，在用金属膜料镀制非金属膜时，可以将反应气体直接馈入蒸发源内并使其离化，从而进行反应镀膜，增加反应程度。

公开(公告)号：CN201225969Y

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200820108760.4

申请日：2008-06-20

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 崔华 ,  蔡元华 ,  熊小涛 ,  钱大益

IPC: G01N1/28

Abstract: 一种透射电镜试样化学减薄夹具，属于实验设备技术领域，涉及到透射电镜制样的工具。包括耐酸的上卡套、下卡套、密封圈和防腐螺钉。透射电镜试样放置在两卡套中间，通过卡套的夹紧作用，使试样两面的密封圈紧紧贴在试样表面，起到密封的效果，避免减薄液流向试样边缘而产生非均匀侵蚀减薄，实现透射电镜试样的均匀减薄。

公开(公告)号：CN207798544U

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201820019349.3

申请日：2018-01-05

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 庞晓露 ,  席烨廷 ,  高克玮 ,  熊小涛 ,  李红 ,  徐秋发

IPC: G01N3/02 ,  G01N3/04 ,  G01N3/06 ,  G01N3/20

Abstract: 本实用新型涉及硬质薄膜材料应力测试领域，具体涉及一种薄膜应力梯度原位演化的测试样品装置。所述样品装置包括样片夹持部件和应力加载部件；所述样片夹持部件夹持样品，所述应力加载部件在样品上施加可调应力。利用上述装置对样品施加不同应力，实现对薄膜不同深度处应力梯度的测定。本实用新型填补了薄膜材料在不同服役环境下的应力梯度原位演化测量装置的空白，实现了基于X射线的薄膜应力梯度的原位加载与测试。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN201237566Y

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200820108761.9

申请日：2008-06-20

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 崔华 ,  蔡元华 ,  钱大益 ,  熊小涛

IPC: G01N1/32

Abstract: 一种磨制金相试样夹持具，属于实验设备技术领域。磨制金相试样夹具包括夹具支撑卡套、带卡槽和紧固螺纹孔的定位螺栓、紧固螺钉和软垫片。具体结构特点是：夹具卡套中部有螺纹通孔，底部有注液孔，定位螺栓是下端开有试样卡槽的普通螺栓，紧固螺钉是普通的带槽紧固螺钉。试样放入定位螺栓的卡槽内，被紧固螺钉固定，磨抛液可以从注液孔中注入，支撑卡套可以减少磨抛液的离心损失。定位螺栓可以为普通的螺栓，也用于用普通胶粘接试样在定位螺栓下端面。