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公开(公告)号:CN101475151A
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200810117602.X
申请日:2008-08-01
Applicant: 北京科技大学
IPC: C01B21/076 , C01B21/068 , C04B35/628 , C04B35/58 , C04B35/584 , C04B35/622
Abstract: 本发明属于导电复合陶瓷领域,涉及一种导电氮化钛/氮化硅纳米复合材料的制备方法,其特征在于低温液相条件下以四氯化钛(TiCl4)和四氯化硅(SiCl4)为原料,在-50℃~20℃温度范围,二者同时被还原,直接得到TiN/Si3N4共沉淀型复合粉体;该复合粉体能够在氮化硅微米或亚微米颗粒的表面形核,直接制备出由纳米TiN和纳米Si3N4共同包覆的复合粉体。通过控制纳米复合粉末中TiN的含量,能够获得满足电火花加工(EDM)的纳米导电复合材料。本发明制备的氮化钛/氮化硅纳米复合材料成分均匀,颗粒细微,而且工艺简便,能耗低,具有推广前景。
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公开(公告)号:CN101318637A
公开(公告)日:2008-12-10
申请号:CN200810116673.8
申请日:2008-07-15
Applicant: 北京科技大学
IPC: C01B21/068 , C04B35/584
Abstract: 本发明提供了一种纳米氮化硅陶瓷粉体的制备方法,属纳米陶瓷材料领域。选择液氨作为反应介质,以卤化硅,包括氯化硅、溴化硅、碘化硅为原料,碱金属钾或钠为还原剂,二者分别溶解于液氨,在-60℃~20℃范围发生液相还原反应,产物经过洗涤提纯、热处理过程,制备出稳定的纳米氮化硅粉体。本发明目的在于采用液氨法低温合成纳米氮化硅陶瓷粉体,简化工艺,提高性能,降低成本,利用碱金属溶解于液氨形成液相强还原剂的特性,在低温条件下制备出比表面积大,纯度高,粒径均匀的纳米氮化硅陶瓷粉体。该粉体不需要任何烧结助剂就能够在较低温度下、短时间内制备获得致密的氮化硅陶瓷体。
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