真空膜浇注系统
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203496198U

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201320548037.9

    申请日:2013-09-04

    Abstract: 本实用新型提供一种真空膜浇注系统,其特征在于,包括:模具;真空膜,所述真空膜包覆在所述模具的周围形成真空空间;真空泵,通过真空管道连接于所述模具的抽真空口;和混料设备,通过注料管连接于所述模具的浇注口。采用本实用新型的真空膜浇注系统进行浇注,在常压下无需特殊的真空设备就可进行浇注,所以可不受设备和空间制约,具有灵活的可操作性;通过由真空薄膜代替真空浇注罐,所需成本较低,简便易行,适应面广泛,适应于现场浇注、小件产品生产、试验型浇注等。

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