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公开(公告)号：CN116444720A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310430827.5
申请日：2023-04-20
Applicant: 北京理工大学
IPC: C08F220/44 , C08F222/06 , C08F218/08 , C08F220/14 , C08F220/40 , C08F2/38 , C08F8/32 , C06B23/00 , C06D5/06
Abstract: 本发明公开一种中性高分子键合剂及其制备方法，所述键合剂结构如式Ⅰ或式Ⅱ所示。进一步的，当所述中性高分子键合剂结构如式Ⅰ时，由此制备得到的固体推进剂断裂伸长率显著提高。本发明提供的中性高分子键合剂可用于ATPET‑GAP固化体系，对改善固体推进剂的力学性能具有明显促进作用。
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