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公开(公告)号：CN107505628A
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201710694191.X
申请日：2017-08-15
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开的一种光学相控阵变分辨率成像系统及方法，属于激光三维成像领域。本发明公开的一种光学相控阵变分辨率成像系统包括系统控制模块、激光发射模块、光学相控阵；还包括光选通模块、第一前端光学系统、粗捕获探测接收模块、粗捕获探测识别模块、第二前端光学系统、精跟踪探测接收模块、精跟踪探测识别模块。本发明还公开用于所述的一种光学相控阵变分辨率成像系统的一种光学相控阵变分辨率成像方法。本发明目的是为了解决在激光扫描探测中扫描速度、扫描精度与探测准确度平衡提升的问题，提供一种同时提升扫描速度与精度的激光扫描探测系统及方法，此外，具有在保持高精度探测状态时，少信息处理量的优点。
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公开(公告)号：CN107505628B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201710694191.X
申请日：2017-08-15
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01S17/894 , G01S17/66
Abstract: 本发明公开的一种光学相控阵变分辨率成像系统及方法，属于激光三维成像领域。本发明公开的一种光学相控阵变分辨率成像系统包括系统控制模块、激光发射模块、光学相控阵；还包括光选通模块、第一前端光学系统、粗捕获探测接收模块、粗捕获探测识别模块、第二前端光学系统、精跟踪探测接收模块、精跟踪探测识别模块。本发明还公开用于所述的一种光学相控阵变分辨率成像系统的一种光学相控阵变分辨率成像方法。本发明目的是为了解决在激光扫描探测中扫描速度、扫描精度与探测准确度平衡提升的问题，提供一种同时提升扫描速度与精度的激光扫描探测系统及方法，此外，具有在保持高精度探测状态时，少信息处理量的优点。
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公开(公告)号：CN107063092B
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201710413858.4
申请日：2017-06-05
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明公开的一种大视场快速扫描的双光源同轴标定系统及调整方法，涉及一种双光源同轴标定系统及调整方法，属于激光三维成像领域。本发明的标定系统包括激光器、第一凸透镜、液体透镜、非球面环形反射镜、半反半透镜、MEMS反射镜、第二凸透镜、反射镜、CCD照相机、数据采集卡的信号输入端、计算机MENS反射镜控制模块、计算机半反半透镜控制模块、控制电机、标定光源、外框。本发明还公开基于所述的标定系统的一种大视场快速扫描的双光源同轴标定及调整方法。本发明提供一种用于激光三维成像发射系统的同轴标定系统及调整方法，实现激光在大视场的扫描过程中双光源的快速同轴标定及调整，具有校准速度快、自动化程度高、扫描视场大、适用范围广的优点。
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公开(公告)号：CN107063092A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710413858.4
申请日：2017-06-05
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/00
CPC classification number: G01B11/00
Abstract: 本发明公开的一种大视场快速扫描的双光源同轴标定系统及调整方法，涉及一种双光源同轴标定系统及调整方法，属于激光三维成像领域。本发明的标定系统包括激光器、第一凸透镜、液体透镜、非球面环形反射镜、半反半透镜、MEMS反射镜、第二凸透镜、反射镜、CCD照相机、数据采集卡的信号输入端、计算机MENS反射镜控制模块、计算机半反半透镜控制模块、控制电机、标定光源、外框。本发明还公开基于所述的标定系统的一种大视场快速扫描的双光源同轴标定及调整方法。本发明提供一种用于激光三维成像发射系统的同轴标定系统及调整方法，实现激光在大视场的扫描过程中双光源的快速同轴标定及调整，具有校准速度快、自动化程度高、扫描视场大、适用范围广的优点。
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