一种基于双光束焦点干涉精细改质加工晶体内部的方法

    公开(公告)号:CN119681471A

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202411930981.X

    申请日:2024-12-26

    Abstract: 一种基于双光束激光焦点干涉精细改质晶体内部的方法,属于激光精密加工领域。本发明实现方法为:利用激光整形器件调整双光束发散角实现焦点A与焦点B的重叠。双焦点重叠并发生干涉,焦点重叠区域会发生能量强弱交替变化的干涉现象;在干涉作用下,激光会将大部分能量集中到干涉增强处,其能量峰值可超过材料内部的改质阈值进而发生改质;双焦点重叠区域尺寸相对于常规单焦点区域实现压缩,而干涉发生改质只占重叠区域的一部分,改质区域尺寸会进一步压缩。相比于常规单焦点改质区域,利用本发明方法改质的纵向尺寸至少能够压缩50%,使得所加工的晶体内部微纳结构精度更高。根据晶体材料的特性选择激光参数,按预设轨迹移动扫描,改质点形成改质线,进而能够在晶体内部实现复杂微纳结构的高精度加工。

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