一种具有电磁交替结构的电磁屏蔽膜及其制备方法和用途

    公开(公告)号:CN117794216A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202410007604.2

    申请日:2024-01-03

    Abstract: 本发明公开了一种具有电磁交替结构的电磁屏蔽膜及其制备方法,所述电磁屏蔽膜由纤维素纳米纤维、改性金属有机骨架化合物和单层MXene构成,所述电磁屏蔽膜为多层结构。该电磁屏蔽膜不仅具有优异的千兆赫兹和太赫兹屏蔽效率,而且具有优良的光热转化性能,在多功能电磁屏蔽复合材料、特种设施防护和电子装备等领域都有很大的应用潜力。该电磁屏蔽膜的多层结构带来了良好的电磁屏蔽效果,多层结构可以使得入射电磁波在交替界面处发生多次散射和反射,增强材料的界面极化作用。交替的结构设计也赋予了材料大量电/磁偶极子,进一步增强了材料的电磁屏蔽能力。

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