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公开(公告)号：CN108113117A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201810066742.2
申请日：2018-01-24
Applicant: 北京服装学院
IPC: A43B17/00
Abstract: 本发明提供了一种内外足弓独立支撑的鞋垫及其制备方法。所述鞋垫包括本体(1)，在本体(1)下表面的足跟踵心部位和外纵弓部位设置一体的减震缓冲支撑垫(5)，在内纵弓部位设置半刚性支撑垫(3)，在足跟部位的内纵弓一侧围绕减震缓冲支撑垫(5)设置跟骨外旋限制模块(4)，在脚掌部位设置回弹垫(2)。该鞋垫结合人体行走的步态，针对不同时期地面和人体对足部作用力的不同，为足部提供相应的保护设置以缓解地面和人体对足部的作用力。
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公开(公告)号：CN108095248A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201810066770.4
申请日：2018-01-24
Applicant: 北京服装学院
IPC: A43B17/00
Abstract: 本发明提供了一种能调整足底平衡的鞋垫及其制备方法，所述鞋垫包括本体(6)包括底部的平面部分(62)，鞋垫本体(6)在内纵弓部位沿人足部内纵弓部位表面向上弯曲形成弧形内纵弓包裹(611)，在足跟部位围绕足跟部位后端沿人足部足根部位后端表面向上弯曲形成脚跟U形包裹(612)，外纵弓部位沿人足部外纵弓表面向上弯曲形成外纵弓包裹(613)；足跟踵心部位外侧设置足跟部外凹槽(7)，足跟踵心部位内侧设置足跟部内凹槽(8)，前掌着地部位设置前掌凹槽(12)；内纵弓包裹(611)外表面设置内纵弓凹槽(9)；在上述各凹槽中分别设置足跟外衬垫(1)、足跟内衬垫(2)、前掌衬垫(5)和内纵弓衬垫(3)，衬垫厚度不低于分别对应的凹槽深度。
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公开(公告)号：CN207940399U
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201820115513.0
申请日：2018-01-24
Applicant: 北京服装学院
IPC: A43B17/00
Abstract: 本实用新型提供了一种能调整足底平衡的鞋垫，所述鞋垫包括本体(6)包括底部的平面部分(62)，鞋垫本体(6)在内纵弓部位沿人足部内纵弓部位表面向上弯曲形成弧形内纵弓包裹(611)，在足跟部位围绕足跟部位后端沿人足部足根部位后端表面向上弯曲形成脚跟U形包裹(612)，外纵弓部位沿人足部外纵弓表面向上弯曲形成外纵弓包裹(613)；足跟踵心部位外侧设置足跟部外凹槽(7)，足跟踵心部位内侧设置足跟部内凹槽(8)，前掌着地部位设置前掌凹槽(12)；内纵弓包裹(611)外表面设置内纵弓凹槽(9)；在上述各凹槽中分别设置足跟外衬垫(1)、足跟内衬垫(2)、前掌衬垫(5)和内纵弓衬垫(3)，衬垫厚度不低于分别对应的凹槽深度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207940398U
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201820115473.X
申请日：2018-01-24
Applicant: 北京服装学院
IPC: A43B17/00
Abstract: 本实用新型提供了一种内外足弓独立支撑的鞋垫。所述鞋垫包括本体(1)，在本体(1)下表面的足跟踵心部位和外纵弓部位设置一体的减震缓冲支撑垫(5)，在内纵弓部位设置半刚性支撑垫(3)，在足跟部位的内纵弓一侧围绕减震缓冲支撑垫(5)设置跟骨外旋限制模块(4)，在脚掌部位设置回弹垫(2)。该鞋垫结合人体行走的步态，针对不同时期地面和人体对足部作用力的不同，为足部提供相应的保护设置以缓解地面和人体对足部的作用力。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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