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发明公开
高温环境中位移场测量系统审中-实审

公开(公告)号：CN112229330A

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201910634548.4

申请日：2019-07-15

Applicant: 北京振兴计量测试研究所

Inventor： 邱超 , 宋春晖 , 吴柯萱 , 魏树第 , 王加朋 , 孙红胜

IPC: G01B11/02

Abstract: 本发明涉及测量技术领域，公开了一种高温环境中位移场测量系统。其中，该系统包括：成像装置，用于对具有特征标示的被测目标进行成像得到包含特征标示的被测目标图像序列；控制处理装置，用于对被测目标图像序列中每个被测目标图像的特征标示进行识别，分析特征标示在对应图像中的坐标位置，并基于坐标位置确定被测目标的位移场；热防护结构腔体，成像装置设置在所述热防护结构腔体内，所述热防护结构腔体具有隔热透光窗口，所述成像装置通过所述隔热透光窗口对被测目标进行成像。由此，可以实现对高温环境下的被测目标的非接触式位移测量。

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