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发明公开
双折射晶体材料、制备方法以及光学器件审中-公开

公开(公告)号：CN118048686A

公开(公告)日：2024-05-17

申请号：CN202410145360.4

申请日：2024-02-01

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴立明 , 李梦月 , 陈玲

IPC: C30B29/10 , C30B29/54 , C30B29/52 , C30B35/00

Abstract: 本申请提供了一种双折射晶体材料、制备方法以及光学器件。该双折射晶体材料包括化学式为AXuR4‑u的阴离子，其中，0＜u＜4，双折射晶体材料中的阴离子具有四面体构型，其中X和R分别构成四面体构型的四个顶点，A构成四面体构型的中心原子，X选自卤素原子，R选自内部含有π键的基团。该双折射晶体材料中的阴离子的极化各向异性显著较高，因而该双折射晶体材料具有显著较高的双折射率。

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