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公开(公告)号:CN101475404A
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200910077834.1
申请日:2009-01-23
Applicant: 北京工业大学
IPC: C04B41/80
Abstract: 本发明是一种用于激光辐照功能材料的气氛控制装置,涉及激光加工领域,尤其是针对特定气氛气压及流速下的激光辐照陶瓷材料改性领域。目前,对功能陶瓷进行激光辐照,使其功能改性的过程大多在空气、常压的条件下进行,不能在烧结过程中进行气氛补偿和控制,对于功能陶瓷的性能改善有很大影响,制约了该技术的进一步发展。其特征在于:该气氛控制装置腔体密封,保证气密性;腔体留有用于激光照射的窗口;气瓶、稳压阀、压力表依次串联后通过腔体上设的进气孔连接腔体;腔体上的出气孔连接安全阀,安全阀与阀门和流量计的串联系统并联。本发明可以实现对激光辐照区域气体成分及流速的稳定控制。
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公开(公告)号:CN201338998Y
公开(公告)日:2009-11-04
申请号:CN200920105187.6
申请日:2009-01-23
Applicant: 北京工业大学
IPC: C04B35/64
Abstract: 本实用新型是一种用于激光辐照功能材料的气氛控制装置,涉及激光加工领域,尤其是针对特定气氛气压及流速下的激光辐照陶瓷材料改性领域。目前,对功能陶瓷进行激光辐照,使其功能改性的过程大多在空气、常压的条件下进行,不能在烧结过程中进行气氛补偿和控制,对于功能陶瓷的性能改善有很大影响,制约了该技术的进一步发展。其特征在于:该气氛控制装置腔体密封,保证气密性;腔体留有用于激光照射的窗口;气瓶、稳压阀、压力表依次串联后通过腔体上设的进气孔连接腔体;腔体上的出气孔连接安全阀,安全阀与阀门和流量计的串联系统并联。本实用新型可以实现对激光辐照区域气体成分及流速的稳定控制。
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