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公开(公告)号:CN112725748B
公开(公告)日:2022-09-09
申请号:CN202011250237.7
申请日:2020-11-10
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种超细纳米晶钨材料的制备方法,属于纳米材料制备技术领域。以非晶材料晶化理论为基础,采用反应磁控溅射结合氢气热处理法制备出平均晶粒尺寸低至4nm的超细纳米晶组织,显微硬度高达22.1GPa。本方法工艺简单,过程易控制,具有较高的实际应用价值。
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公开(公告)号:CN114351103A
公开(公告)日:2022-04-15
申请号:CN202111536447.7
申请日:2021-12-14
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种轴承钢表面固载二硫化钼薄膜的方法,属于金属材料表面改性技术领域。首先使用脉冲激光器在轴承钢表面制备微孔阵列,然后利用射频磁控溅射技术将MoS2固体润滑剂引入到轴承钢表面。经固载后的轴承钢表面的摩擦系数最低可降至0.10,远低于光滑表面轴承钢的摩擦系数1.10。固体润滑剂沉积在轴承钢表面,摩擦失效时间为198.66分钟,光滑轴承钢表面摩擦时间失效时间为15.66分钟。本发明提供的轴承钢表面微孔固载MoS2的技术,可以大幅降低轴承钢表面的摩擦系数,提高固体润滑材料的稳定性。
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公开(公告)号:CN112725748A
公开(公告)日:2021-04-30
申请号:CN202011250237.7
申请日:2020-11-10
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种超细纳米晶钨材料的制备方法,属于纳米材料制备技术领域。以非晶材料晶化理论为基础,采用反应磁控溅射结合氢气热处理法制备出平均晶粒尺寸低至4nm的超细纳米晶组织,显微硬度高达22.1GPa。本方法工艺简单,过程易控制,具有较高的实际应用价值。
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公开(公告)号:CN118048602A
公开(公告)日:2024-05-17
申请号:CN202410145562.9
申请日:2024-02-01
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C8/68
Abstract: 一种GH4169合金表面高耐磨硼化物渗层的低温制备方法,属于耐磨材料制备技术领域。利用固体粉末包埋渗硼技术,通过调节渗硼剂(3%‑6%KFB4,10%ZrO2,余量为B4C),成功在800℃低温条件下在固溶态GH4169镍基高温合金表面制备了厚度约为8.2μm的高硬度、高耐磨硼化物渗层。相比传统的GH4169合金高温渗硼工艺相比,这种渗硼方法能够将合金热处理时效过程与渗硼过程相统一,避免了高温渗硼后的二次热处理工序;并显著提高了GH4169合金的耐磨特性。本发明渗层制备工艺简单,成本较低并且可以获得质量良好、结合牢固的硼化物渗层。
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公开(公告)号:CN111036914A
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:CN202010006398.5
申请日:2020-01-03
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种钨基扩散阴极的增材制造制备方法,属于热阴极电子发射材料的制备技术领域,采用可三维立体成型的激光选区熔化(SLM)技术制备了阴极多孔钨基,并对激光能量与多孔钨基致密度的关系进行了研究。研究结果表明采用激光功率P=160W,扫描速度V=1600mm/s,扫描间距D=0.10mm的制备工艺能够获得相对密度为65.7%的阴极基体,且能够满足阴极后续制备加工的需求,其活性盐浸渍量达13%。对该阴极发射性能进行测试,结果显示该阴极发射性能能够达到传统钡钨阴极材料的发射性能。
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公开(公告)号:CN108149042A
公开(公告)日:2018-06-12
申请号:CN201711407530.8
申请日:2017-12-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种高致密度钼材料的低温活化烧结制备方法,属于粉末冶金技术领域。按Mo-x%Ni(x=0.1-1,质量分数)称取仲钼酸氨和六水硝酸镍,加入去离子水配制混合溶液作为前驱体溶液,采用喷雾干燥的方法制备前驱体粉末;将前驱体粉末在马弗炉中煅烧;通过管式炉进行两步氢还原;将还原后的粉末进行高能球磨,转速为350rpm+6rpm,球料比10:1,球磨5h,得到平均颗粒尺寸为190nm的粉末;将获得的粉末进行模压,采用高温钨网氢气炉在最高温度1400℃-1750℃下烧结60min;本发明所提供的制备方法烧结温度低、烧结时间短、高效节能、所得产物致密度高、晶粒尺寸较细小均匀、杂质少。
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公开(公告)号:CN117947400A
公开(公告)日:2024-04-30
申请号:CN202410231524.5
申请日:2024-02-29
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种高耐磨硼化钨涂层的制备方法,属于耐磨材料制备技术领域。利用化学气相沉积技术,在钨基体上首先制备厚度约为29.1μm纯钨涂层,再利用低温固相渗硼技术,将部分纯钨涂层转化成硼化钨涂层,进而实现材料表面硬度和耐磨损性能的提升。相比于金属表面直接化学气相沉积硼化钨,本方法可避免使用高危险的三氯化硼气体,还能有效调控涂层厚度与显微结构。本发明涂层制备工艺可适用于多种金属材料的表面强化改性,具有较强的实际应用价值。
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公开(公告)号:CN117737681A
公开(公告)日:2024-03-22
申请号:CN202311511226.3
申请日:2023-11-13
Applicant: 北京工业大学 , 佛山耐信涂层技术有限公司
Abstract: 一种航空有机玻璃表面高透明疏水DLC薄膜的制备方法,属于疏水材料的技术制备领域。本发明以高纯碳靶为碳源,高纯CF4气体为氟源,通过反应磁控溅射技术在YB‑3型航空有机玻璃表面低温沉积出厚度约30nm、F原子量约为20%的DLC薄膜,其透光率达90.9%,疏水角达108.6°。本发明薄膜制备工艺易调控,并且可以获得综合性能良好的透明疏水DLC薄膜。
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